光学膜、光学元件和成像装置

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201880057066.0

申请日：

2018-09-21

公开(公告)号：

CN111051936B

公开(公告)日：

2020-04-21

发明(设计)人：

高铜浩洪敬奇李荣旼许斗宁尹苏罗金善国金志原

申请人：

申请人地址：

韩国首尔

IPC主分类号：

G02B530

IPC分类号：

G02F113 G02F11335 G02B111 G02B2742 G02B2701 G02B2700 G02B522

代理机构：

北京集佳知识产权代理有限公司 11227

代理人：

高世豪;尚光远

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2020-04-21	公开	公开
2020-05-15	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):G02B 5/30 申请日:20180921
2022-03-08	授权	授权

共 50 条

[1]

光学元件、光学装置和成像装置 [P].

八岛久美子 .

中国专利 :CN110109225A ,2019-08-09

[2]

光学元件和成像装置 [P].

大石忠宏 ;

田中敬太 ;

安藤正树 ;

田中和洋 .

中国专利 :CN101046554A ,2007-10-03

[3]

光学元件和成像装置 [P].

高塚进 ;

井手直纪 ;

上野比吕至 ;

铁川弘树 .

日本专利 :CN120814242A ,2025-10-17

[4]

光学元件和成像装置 [P].

光田幸宽 ;

佐野幸广 ;

海部敬太 ;

田中和洋 .

中国专利 :CN101685172A ,2010-03-31

[5]

光学元件和成像装置 [P].

高塚进 ;

井手直纪 ;

上野比吕至 ;

铁川弘树 .

日本专利 :CN120937381A ,2025-11-11

[6]

光学元件和包含光学元件的成像光学元件 [P].

斯特芬·赖歇尔 ;

沃尔弗拉姆·拜尔 ;

弗兰克－托马斯·伦特斯 ;

冈野吉雄 ;

约亨·阿尔克姆佩尔 ;

若泽·齐默尔 ;

约瑟夫·S·海登 ;

卡斯滕·温霍尔德 ;

乌尔里希·波伊切尔特 ;

马丁·莱茨 .

中国专利 :CN101097262A ,2008-01-02

[7]

光学元件、光学装置以及成像装置 [P].

大石忠宏 ;

田中和洋 .

中国专利 :CN101051161A ,2007-10-10

[8]

衍射光学元件、光学设备和成像装置 [P].

宇久田秀雄 .

中国专利 :CN111796351A ,2020-10-20

[9]

用于制造光学元件的装置和方法、光学元件和成像装置 [P].

安藤正树 .

中国专利 :CN101791836B ,2010-08-04

[10]

光学元件、光学装置、成像装置和化合物 [P].

田上庆 .

中国专利 :CN114437269A ,2022-05-06

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