光刻设备、用于光刻设备和方法中的定位系统

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201480037053.9

申请日：

2014-06-26

公开(公告)号：

CN105339845B

公开(公告)日：

2016-02-17

发明(设计)人：

R·M·韦斯特霍夫 H·L·哈根纳斯 U·舍恩霍夫 A·J·P·范恩格尔伦

申请人：

申请人地址：

荷兰维德霍温

IPC主分类号：

G03F720

IPC分类号：

代理机构：

中科专利商标代理有限责任公司 11021

代理人：

张启程

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2018-06-26	授权	授权
2016-03-16	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101650138848 IPC(主分类):G03F 7/20 专利申请号:2014800370539 申请日:20140626
2016-02-17	公开	公开

共 50 条

[1]

定位系统、光刻设备和方法 [P].

J·范埃基科 ;

E·A·F·范德尔帕斯卡 ;

J·P·M·B·沃麦尤伦 .

中国专利 :CN101989050A ,2011-03-23

[2]

定位系统和光刻设备 [P].

K·F·巴斯特拉安 ;

Y-S·黄 ;

A·F·J·德格罗特 ;

M·金姆 ;

J·A·F·M·西蒙斯 ;

T·A·M·瑞杰尔 ;

R·J·M·拉默斯 .

中国专利 :CN109690407A ,2019-04-26

[3]

用于光刻设备的定位系统 [P].

M·H·基曼 ;

J·韦瑟林 .

中国专利 :CN111868631A ,2020-10-30

[4]

定位系统、光刻设备和用于定位控制的方法 [P].

汉斯·巴特勒 ;

亨瑞克斯·赫尔曼·玛丽·考克斯 .

中国专利 :CN102566300A ,2012-07-11

[5]

光刻设备、定位系统以及定位方法 [P].

E·M·J·斯密特思 .

中国专利 :CN101866115B ,2010-10-20

[6]

定位系统、光刻设备和器件制造方法 [P].

H·巴特勒 ;

M·A·W·苏吉皮尔斯 ;

C·A·胡根达姆 ;

R·J·M·德琼 ;

M·J·M·林肯斯 ;

M·W·M·范德威吉斯特 ;

M·W·J·E·威吉克曼斯 ;

R·L·吐圣恩 ;

R·P·H·法森 ;

A·H·考沃埃特斯 .

中国专利 :CN101561642B ,2009-10-21

[7]

用于光刻系统的光刻校准设备、方法和光刻系统 [P].

钟景山 ;

王智 ;

庄文秀 .

中国专利 :CN119828420A ,2025-04-15

[8]

光刻设备和操作光刻设备的方法 [P].

U.丁格 ;

M.霍尔兹 ;

U.比尔 .

中国专利 :CN107850851B ,2018-03-27

[9]

光刻设备、光刻设备中的盖和设计光刻设备中的盖的方法 [P].

N·J·J·罗塞特 ;

N·坦卡特 ;

S·舒勒波夫 ;

R·W·L·拉法瑞 .

中国专利 :CN102193333A ,2011-09-21

[10]

光刻设备和方法 [P].

H·本特勒 ;

P·J·M·范吉尔斯 .

中国专利 :CN101960387A ,2011-01-26

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