用于光刻系统的光刻校准设备、方法和光刻系统

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202510039558.9

申请日：

2025-01-10

公开(公告)号：

CN119828420A

公开(公告)日：

2025-04-15

发明(设计)人：

钟景山王智庄文秀

申请人：

之江实验室

申请人地址：

311121 浙江省杭州市余杭区中泰街道科创大道之江实验室

IPC主分类号：

G03F7/20

IPC分类号：

G02B27/09

代理机构：

杭州华进联浙知识产权代理有限公司 33250

代理人：

唐诗卉

法律状态：

公开

国省代码：

浙江省杭州市

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2025-04-15	公开	公开
2025-05-02	实质审查的生效	实质审查的生效IPC(主分类):G03F 7/20申请日:20250110

共 50 条

[1]

光刻方法和光刻系统 [P].

A·尼基佩洛维 ;

W·恩格伦 ;

J·艾科曼斯 ;

E·鲁普斯特拉 ;

O·弗里吉恩斯 .

中国专利 :CN108873623A ,2018-11-23

[2]

光刻方法和光刻系统 [P].

A·尼基佩洛维 ;

O·弗里吉恩斯 ;

G·德弗里斯 ;

E·鲁普斯特拉 ;

V·巴尼内 ;

P·德加格 ;

R·唐克 ;

H-K·尼恩海斯 ;

B·克瑞金加 ;

W·恩格伦 ;

O·鲁伊藤 ;

J·艾科曼斯 ;

L·格里敏克 ;

V·里特维南科 .

中国专利 :CN105359038B ,2016-02-24

[3]

光刻系统和光刻方法 [P].

张祥平 ;

李天慧 ;

许刚 ;

藤井光一 .

中国专利 :CN108983557B ,2018-12-11

[4]

用于光刻系统的校准方法 [P].

C·M·布劳威尔 ;

李忠勋 .

中国专利 :CN114641729A ,2022-06-17

[5]

直写光刻系统和直写光刻方法 [P].

浦东林 ;

朱鹏飞 ;

朱鸣 ;

邵仁锦 ;

张瑾 ;

王冠楠 ;

陈林森 .

中国专利 :CN112987501B ,2021-06-18

[6]

光刻系统的扫描方法和光刻系统 [P].

陈国军 ;

吴景舟 ;

马迪 .

中国专利 :CN112764324B ,2021-05-07

[7]

光刻设备、用于光刻设备和方法中的定位系统 [P].

R·M·韦斯特霍夫 ;

H·L·哈根纳斯 ;

U·舍恩霍夫 ;

A·J·P·范恩格尔伦 .

中国专利 :CN105339845B ,2016-02-17

[8]

光刻装置、光刻方法、程序、光刻系统和物品制造方法 [P].

宫岛义一 ;

中野一志 .

中国专利 :CN105892231B ,2016-08-24

[9]

光刻装置和光刻系统 [P].

李晓峰 .

中国专利 :CN221993769U ,2024-11-12

[10]

光刻装置和光刻系统 [P].

李西军 ;

宋春燕 .

中国专利 :CN114675507B ,2025-03-25

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