光刻方法和光刻系统

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201480034718.0

申请日：

2014-06-17

公开(公告)号：

CN105359038B

公开(公告)日：

2016-02-24

发明(设计)人：

A·尼基佩洛维 O·弗里吉恩斯 G·德弗里斯 E·鲁普斯特拉 V·巴尼内 P·德加格 R·唐克 H-K·尼恩海斯 B·克瑞金加 W·恩格伦 O·鲁伊藤 J·艾科曼斯 L·格里敏克 V·里特维南科

申请人：

申请人地址：

荷兰维德霍温

IPC主分类号：

G03F720

IPC分类号：

代理机构：

北京市金杜律师事务所 11256

代理人：

王茂华

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

引用

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共 50 条

[1]

光刻方法和光刻系统 [P].

A·尼基佩洛维 ;

W·恩格伦 ;

J·艾科曼斯 ;

E·鲁普斯特拉 ;

O·弗里吉恩斯 .

中国专利 :CN108873623A ,2018-11-23

[2]

光刻系统和光刻方法 [P].

张祥平 ;

李天慧 ;

许刚 ;

藤井光一 .

中国专利 :CN108983557B ,2018-12-11

[3]

光刻系统和方法 [P].

A·尼基帕罗夫 ;

马库斯·艾德里纳斯·范德柯克霍夫 ;

E·W·F·卡西米里 ;

S·萨尔瓦多 .

中国专利 :CN112771446A ,2021-05-07

[4]

光刻系统和方法 [P].

A·尼基帕罗夫 ;

马库斯·艾德里纳斯·范德柯克霍夫 ;

E·W·F·卡西米里 ;

S·萨尔瓦多 .

:CN112771446B ,2024-12-20

[5]

光刻系统 [P].

简·伯纳德·普莱彻尔墨斯·范斯库特 ;

M·库珀厄斯 ;

A·M·雅库尼恩 .

中国专利 :CN106062636A ,2016-10-26

[6]

光刻装置和光刻系统 [P].

李晓峰 .

中国专利 :CN221993769U ,2024-11-12

[7]

光刻装置和光刻系统 [P].

李西军 ;

宋春燕 .

中国专利 :CN114675507B ,2025-03-25

[8]

光刻装置和光刻系统 [P].

李西军 .

中国专利 :CN114675507A ,2022-06-28

[9]

直写光刻系统和直写光刻方法 [P].

浦东林 ;

朱鹏飞 ;

朱鸣 ;

邵仁锦 ;

张瑾 ;

王冠楠 ;

陈林森 .

中国专利 :CN112987501B ,2021-06-18

[10]

用于光刻系统的光刻校准设备、方法和光刻系统 [P].

钟景山 ;

王智 ;

庄文秀 .

中国专利 :CN119828420A ,2025-04-15

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法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2016-07-13	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101670122240 IPC(主分类):G03F 7/20 专利申请号:2014800347180 申请日:20140617
2016-02-24	公开	公开
2018-08-10	授权	授权