光刻系统和光刻方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201810875702.2

申请日：

2018-08-03

公开(公告)号：

CN108983557B

公开(公告)日：

2018-12-11

发明(设计)人：

张祥平李天慧许刚藤井光一

申请人：

申请人地址：

223300 江苏省淮安市淮阴区长江东路599号

IPC主分类号：

G03F720

IPC分类号：

代理机构：

中国贸促会专利商标事务所有限公司 11038

代理人：

杜文树

法律状态：

专利申请权、专利权的转移

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2023-01-13	专利申请权、专利权的转移	专利权的转移 IPC(主分类):G03F 7/20 登记生效日:20230104 变更事项:专利权人变更前权利人:德淮半导体有限公司变更后权利人:淮安西德工业设计有限公司变更事项:地址变更前权利人:223300 江苏省淮安市淮阴区长江东路599号变更后权利人:223001 江苏省淮安市淮阴区钱江路南侧、市振达钢管公司东侧6幢318室
2018-12-11	公开	公开
2021-02-09	授权	授权

共 50 条

[1]

光刻方法和光刻系统 [P].

A·尼基佩洛维 ;

W·恩格伦 ;

J·艾科曼斯 ;

E·鲁普斯特拉 ;

O·弗里吉恩斯 .

中国专利 :CN108873623A ,2018-11-23

[2]

光刻方法和光刻系统 [P].

A·尼基佩洛维 ;

O·弗里吉恩斯 ;

G·德弗里斯 ;

E·鲁普斯特拉 ;

V·巴尼内 ;

P·德加格 ;

R·唐克 ;

H-K·尼恩海斯 ;

B·克瑞金加 ;

W·恩格伦 ;

O·鲁伊藤 ;

J·艾科曼斯 ;

L·格里敏克 ;

V·里特维南科 .

中国专利 :CN105359038B ,2016-02-24

[3]

光刻方法及光刻系统 [P].

请求不公布姓名 ;

请求不公布姓名 .

中国专利 :CN117555205A ,2024-02-13

[4]

光刻方法及光刻系统 [P].

请求不公布姓名 ;

请求不公布姓名 .

中国专利 :CN117555205B ,2024-11-29

[5]

光刻装置和光刻系统 [P].

李晓峰 .

中国专利 :CN221993769U ,2024-11-12

[6]

光刻装置和光刻系统 [P].

李西军 ;

宋春燕 .

中国专利 :CN114675507B ,2025-03-25

[7]

光刻装置和光刻系统 [P].

李西军 .

中国专利 :CN114675507A ,2022-06-28

[8]

直写光刻系统和直写光刻方法 [P].

浦东林 ;

朱鹏飞 ;

朱鸣 ;

邵仁锦 ;

张瑾 ;

王冠楠 ;

陈林森 .

中国专利 :CN112987501B ,2021-06-18

[9]

用于光刻系统的光刻校准设备、方法和光刻系统 [P].

钟景山 ;

王智 ;

庄文秀 .

中国专利 :CN119828420A ,2025-04-15

[10]

光刻系统的扫描方法和光刻系统 [P].

陈国军 ;

吴景舟 ;

马迪 .

中国专利 :CN112764324B ,2021-05-07

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