光刻装置、光刻方法、程序、光刻系统和物品制造方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201610086176.2

申请日：

2016-02-16

公开(公告)号：

CN105892231B

公开(公告)日：

2016-08-24

发明(设计)人：

宫岛义一中野一志

申请人：

申请人地址：

日本东京

IPC主分类号：

G03F700

IPC分类号：

代理机构：

中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038

代理人：

宿小猛

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2019-12-10	授权	授权
2016-08-24	公开	公开
2017-03-22	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101708628920 IPC(主分类):G03F 7/00 专利申请号:2016100861762 申请日:20160216

共 50 条

[1]

光刻装置、光刻方法、光刻系统及物品制造方法 [P].

多田义人 ;

高仓伸 .

中国专利 :CN104932206B ,2015-09-23

[2]

光刻装置、光刻系统和物品的制造方法 [P].

田中亮 .

中国专利 :CN104820343B ,2015-08-05

[3]

光刻方法和光刻系统 [P].

A·尼基佩洛维 ;

W·恩格伦 ;

J·艾科曼斯 ;

E·鲁普斯特拉 ;

O·弗里吉恩斯 .

中国专利 :CN108873623A ,2018-11-23

[4]

光刻方法和光刻系统 [P].

A·尼基佩洛维 ;

O·弗里吉恩斯 ;

G·德弗里斯 ;

E·鲁普斯特拉 ;

V·巴尼内 ;

P·德加格 ;

R·唐克 ;

H-K·尼恩海斯 ;

B·克瑞金加 ;

W·恩格伦 ;

O·鲁伊藤 ;

J·艾科曼斯 ;

L·格里敏克 ;

V·里特维南科 .

中国专利 :CN105359038B ,2016-02-24

[5]

光刻系统和光刻方法 [P].

张祥平 ;

李天慧 ;

许刚 ;

藤井光一 .

中国专利 :CN108983557B ,2018-12-11

[6]

直写光刻系统和直写光刻方法 [P].

浦东林 ;

朱鹏飞 ;

朱鸣 ;

邵仁锦 ;

张瑾 ;

王冠楠 ;

陈林森 .

中国专利 :CN112987501B ,2021-06-18

[7]

图案形成方法、光刻装置、光刻系统及物品制造方法 [P].

佐藤浩司 .

中国专利 :CN104281002A ,2015-01-14

[8]

用于光刻系统的光刻校准设备、方法和光刻系统 [P].

钟景山 ;

王智 ;

庄文秀 .

中国专利 :CN119828420A ,2025-04-15

[9]

检测装置、检测方法、程序、光刻装置和物品制造方法 [P].

坂本宪稔 .

中国专利 :CN107305320B ,2017-10-31

[10]

光刻装置和光刻系统 [P].

李晓峰 .

中国专利 :CN221993769U ,2024-11-12

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