用于生长SiC晶体的SiC原料的制备方法和制备装置

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN201780054385.1
申请日
2017-03-30
公开(公告)号
CN109844185B
公开(公告)日
2019-06-04
发明(设计)人
彭同华 刘春俊 王波 张平 邹宇 赵宁
申请人
申请人地址
832099 新疆维吾尔自治区石河子市石河子开发区双拥路8-9号
IPC主分类号
C30B2936
IPC分类号
C30B2306
代理机构
北京集佳知识产权代理有限公司 11227
代理人
王学强
法律状态
实质审查的生效
国省代码
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共 50 条
[1]
用于生长SiC晶体的石墨坩埚 [P]. 
邓树军 ;
巴音图 ;
高宇 ;
陶莹 ;
赵梅玉 .
中国专利 :CN204417652U ,2015-06-24
[2]
SiC多孔烧结体的制备方法、SiC多孔烧结体和SiC晶体 [P]. 
邓树军 ;
张洁 ;
黄首义 .
中国专利 :CN112723904A ,2021-04-30
[3]
SiC粉体的制备装置和SiC粉体的制备方法 [P]. 
贾瑞涛 ;
刘宁宁 .
中国专利 :CN117821932A ,2024-04-05
[4]
SiC粉体的制备装置和SiC粉体的制备方法 [P]. 
贾瑞涛 ;
刘宁宁 .
中国专利 :CN117821932B ,2025-05-27
[5]
挡板、芯片、SiC晶体、晶体生长炉和生长方法 [P]. 
胡彬 ;
段焕涛 .
中国专利 :CN117822097A ,2024-04-05
[6]
坩埚、坩埚的制备方法及4H-SiC晶体的生长方法 [P]. 
三重野文健 .
中国专利 :CN108070909A ,2018-05-25
[7]
SiC晶体生长装置及方法 [P]. 
邓树军 ;
张洁 ;
汪良 ;
付芬 .
中国专利 :CN111304746A ,2020-06-19
[8]
具有低位错密度的SiC晶体和从晶体切割的SiC晶片 [P]. 
罗曼·德拉赫夫 ;
达伦·汉森 ;
M·罗伯达 ;
爱德华·桑切斯 .
中国专利 :CN111676513A ,2020-09-18
[9]
具有低位错密度的SiC晶体和从晶体切割的SiC晶片 [P]. 
罗曼·德拉赫夫 ;
达伦·汉森 ;
M·罗伯达 ;
爱德华·桑切斯 .
中国专利 :CN105051268A ,2015-11-11
[10]
一种用于生长SiC晶体的坩埚 [P]. 
邓树军 ;
高宇 ;
陶莹 ;
赵梅玉 ;
段聪 .
中国专利 :CN203546203U ,2014-04-16