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用于生长SiC晶体的SiC原料的制备方法和制备装置
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN201780054385.1
申请日
:
2017-03-30
公开(公告)号
:
CN109844185B
公开(公告)日
:
2019-06-04
发明(设计)人
:
彭同华
刘春俊
王波
张平
邹宇
赵宁
申请人
:
申请人地址
:
832099 新疆维吾尔自治区石河子市石河子开发区双拥路8-9号
IPC主分类号
:
C30B2936
IPC分类号
:
C30B2306
代理机构
:
北京集佳知识产权代理有限公司 11227
代理人
:
王学强
法律状态
:
实质审查的生效
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2019-06-28
实质审查的生效
实质审查的生效 IPC(主分类):C30B 29/36 申请日:20170330
2019-06-04
公开
公开
2020-11-03
授权
授权
共 50 条
[1]
用于生长SiC晶体的石墨坩埚
[P].
邓树军
论文数:
0
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邓树军
;
巴音图
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巴音图
;
高宇
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高宇
;
陶莹
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陶莹
;
赵梅玉
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赵梅玉
.
中国专利
:CN204417652U
,2015-06-24
[2]
SiC多孔烧结体的制备方法、SiC多孔烧结体和SiC晶体
[P].
邓树军
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邓树军
;
张洁
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张洁
;
黄首义
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黄首义
.
中国专利
:CN112723904A
,2021-04-30
[3]
SiC粉体的制备装置和SiC粉体的制备方法
[P].
贾瑞涛
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机构:
吉盛微(武汉)新材料科技有限公司
吉盛微(武汉)新材料科技有限公司
贾瑞涛
;
刘宁宁
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机构:
吉盛微(武汉)新材料科技有限公司
吉盛微(武汉)新材料科技有限公司
刘宁宁
.
中国专利
:CN117821932A
,2024-04-05
[4]
SiC粉体的制备装置和SiC粉体的制备方法
[P].
贾瑞涛
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机构:
吉盛微(武汉)新材料科技有限公司
吉盛微(武汉)新材料科技有限公司
贾瑞涛
;
刘宁宁
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机构:
吉盛微(武汉)新材料科技有限公司
吉盛微(武汉)新材料科技有限公司
刘宁宁
.
中国专利
:CN117821932B
,2025-05-27
[5]
挡板、芯片、SiC晶体、晶体生长炉和生长方法
[P].
胡彬
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机构:
华为技术有限公司
华为技术有限公司
胡彬
;
段焕涛
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机构:
华为技术有限公司
华为技术有限公司
段焕涛
.
中国专利
:CN117822097A
,2024-04-05
[6]
坩埚、坩埚的制备方法及4H-SiC晶体的生长方法
[P].
三重野文健
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三重野文健
.
中国专利
:CN108070909A
,2018-05-25
[7]
SiC晶体生长装置及方法
[P].
邓树军
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邓树军
;
张洁
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张洁
;
汪良
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汪良
;
付芬
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付芬
.
中国专利
:CN111304746A
,2020-06-19
[8]
具有低位错密度的SiC晶体和从晶体切割的SiC晶片
[P].
罗曼·德拉赫夫
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罗曼·德拉赫夫
;
达伦·汉森
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达伦·汉森
;
M·罗伯达
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M·罗伯达
;
爱德华·桑切斯
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0
爱德华·桑切斯
.
中国专利
:CN111676513A
,2020-09-18
[9]
具有低位错密度的SiC晶体和从晶体切割的SiC晶片
[P].
罗曼·德拉赫夫
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0
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罗曼·德拉赫夫
;
达伦·汉森
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达伦·汉森
;
M·罗伯达
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M·罗伯达
;
爱德华·桑切斯
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爱德华·桑切斯
.
中国专利
:CN105051268A
,2015-11-11
[10]
一种用于生长SiC晶体的坩埚
[P].
邓树军
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邓树军
;
高宇
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高宇
;
陶莹
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陶莹
;
赵梅玉
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赵梅玉
;
段聪
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段聪
.
中国专利
:CN203546203U
,2014-04-16
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