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半导体器件及其制造方法
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN201410076999.8
申请日
:
2014-03-04
公开(公告)号
:
CN104037125B
公开(公告)日
:
2014-09-10
发明(设计)人
:
金志永
金大益
金冈昱
金那罗
朴济民
李圭现
郑铉雨
秦教英
洪亨善
黄有商
申请人
:
申请人地址
:
韩国京畿道
IPC主分类号
:
H01L2706
IPC分类号
:
H01L21683
H01L21768
H01L23544
H01L27146
H01L2348
H01L2177
代理机构
:
北京市柳沈律师事务所 11105
代理人
:
屈玉华
法律状态
:
实质审查的生效
国省代码
:
引用
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2015-11-25
实质审查的生效
实质审查的生效 号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101634486119 IPC(主分类):H01L 21/77 专利申请号:2014100769998 申请日:20140304
2018-09-11
授权
授权
2014-09-10
公开
公开
共 50 条
[1]
半导体器件及其制造方法
[P].
郑璲钰
论文数:
0
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0
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0
郑璲钰
.
中国专利
:CN101567339B
,2009-10-28
[2]
半导体器件及其制造方法
[P].
门岛胜
论文数:
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0
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0
门岛胜
;
井上真雄
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井上真雄
.
中国专利
:CN108735800A
,2018-11-02
[3]
半导体器件及其制造方法
[P].
金承焕
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0
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0
金承焕
.
中国专利
:CN102054766A
,2011-05-11
[4]
半导体器件及其制造方法
[P].
李柄勋
论文数:
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李柄勋
;
林昌文
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林昌文
.
中国专利
:CN103165610A
,2013-06-19
[5]
半导体器件及其制造方法
[P].
金承范
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金承范
.
中国专利
:CN102034755A
,2011-04-27
[6]
半导体器件及其制造方法
[P].
伊东由夫
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伊东由夫
;
久岛好正
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久岛好正
;
内田浩和
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内田浩和
.
中国专利
:CN101552244A
,2009-10-07
[7]
半导体器件及其制造方法
[P].
前田茂伸
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前田茂伸
;
卢铉弼
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卢铉弼
;
李忠浩
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李忠浩
;
咸锡宪
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咸锡宪
.
中国专利
:CN103137621A
,2013-06-05
[8]
半导体器件及其制造方法
[P].
川下道宏
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川下道宏
;
吉村保广
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吉村保广
;
田中直敬
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田中直敬
;
内藤孝洋
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内藤孝洋
;
赤沢隆
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赤沢隆
.
中国专利
:CN101320702A
,2008-12-10
[9]
半导体器件及其制造方法
[P].
真篠直寛
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真篠直寛
.
中国专利
:CN1320620C
,2004-01-21
[10]
半导体器件及其制造方法
[P].
金燦佑
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0
金燦佑
.
中国专利
:CN102347331A
,2012-02-08
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