半导体器件及其制造方法

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN200710136893.2
申请日
2007-07-23
公开(公告)号
CN101127326A
公开(公告)日
2008-02-20
发明(设计)人
张贞烈
申请人
申请人地址
韩国首尔
IPC主分类号
H01L218234
IPC分类号
H01L21336 H01L2704 H01L2978
代理机构
隆天国际知识产权代理有限公司
代理人
郑小军
法律状态
发明专利申请公布后的视为撤回
国省代码
引用
下载
收藏
共 50 条
[1]
半导体器件及其制造方法 [P]. 
吴珑虎 .
中国专利 :CN101192541A ,2008-06-04
[2]
半导体器件及其制造方法 [P]. 
尹济永 .
中国专利 :CN101350301A ,2009-01-21
[3]
半导体器件及其制造方法 [P]. 
李斗成 .
中国专利 :CN101728385A ,2010-06-09
[4]
半导体器件及其制造方法 [P]. 
黄文摄 .
中国专利 :CN100524825C ,2007-06-20
[5]
半导体器件及其制造方法 [P]. 
李真 ;
朴赞毫 ;
金虎铉 ;
黄大元 ;
金荣锡 .
韩国专利 :CN119133230A ,2024-12-13
[6]
半导体器件及其制造方法 [P]. 
王欢 .
中国专利 :CN114496794A ,2022-05-13
[7]
半导体器件及其制造方法 [P]. 
金大均 .
中国专利 :CN101471342A ,2009-07-01
[8]
半导体器件及其制造方法 [P]. 
朴茔泽 .
中国专利 :CN100502045C ,2007-07-04
[9]
半导体器件及其制造方法 [P]. 
张炳琸 .
中国专利 :CN100570892C ,2008-07-02
[10]
半导体器件及其制造方法 [P]. 
黄宗泽 .
中国专利 :CN101211893A ,2008-07-02