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等离子体处理装置
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN200810171431.9
申请日
:
2008-08-29
公开(公告)号
:
CN101378007A
公开(公告)日
:
2009-03-04
发明(设计)人
:
松浦广行
高桥俊树
福岛讲平
申请人
:
申请人地址
:
日本东京都
IPC主分类号
:
H01L2100
IPC分类号
:
H01L21318
C23C16509
H01J3732
H05H146
代理机构
:
北京尚诚知识产权代理有限公司
代理人
:
龙淳
法律状态
:
公开
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2009-03-04
公开
公开
2010-05-12
实质审查的生效
实质审查的生效 号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101001718519 IPC(主分类):H01L 21/00 专利申请号:2008101714319 申请日:20080829
2013-03-27
授权
授权
共 50 条
[1]
等离子体处理装置
[P].
松浦广行
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松浦广行
;
高桥俊树
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高桥俊树
;
福岛讲平
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福岛讲平
.
中国专利
:CN102163530A
,2011-08-24
[2]
等离子体处理装置和等离子体处理方法
[P].
西野雅
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西野雅
;
真壁正嗣
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真壁正嗣
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长山将之
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长山将之
;
半田达也
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半田达也
;
绿川良太郎
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绿川良太郎
;
小林启悟
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小林启悟
;
仁矢铁也
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仁矢铁也
.
中国专利
:CN103959447A
,2014-07-30
[3]
等离子体处理装置和等离子体处理方法
[P].
阪根亮太
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阪根亮太
;
小林秀行
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小林秀行
;
长畑寿
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长畑寿
;
罗重佑
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罗重佑
.
中国专利
:CN108172493B
,2018-06-15
[4]
等离子体处理装置
[P].
桧森慎司
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桧森慎司
;
林大辅
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林大辅
;
清水昭贵
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清水昭贵
.
中国专利
:CN102110574B
,2011-06-29
[5]
等离子体处理装置
[P].
泽田郁夫
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泽田郁夫
;
P·芬泽克
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P·芬泽克
;
大下辰郎
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大下辰郎
;
松崎和爱
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松崎和爱
;
康松润
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康松润
.
中国专利
:CN101601125B
,2009-12-09
[6]
等离子体处理装置
[P].
松浦广行
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松浦广行
;
高桥俊树
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高桥俊树
;
福岛讲平
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福岛讲平
.
中国专利
:CN104051213A
,2014-09-17
[7]
等离子体处理装置
[P].
佐佐木芳彦
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佐佐木芳彦
;
佐藤亮
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佐藤亮
;
山科井作
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山科井作
.
中国专利
:CN111952141A
,2020-11-17
[8]
等离子体处理装置
[P].
进藤崇央
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机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
进藤崇央
.
日本专利
:CN121237624A
,2025-12-30
[9]
等离子体处理装置和等离子体处理方法
[P].
舆水地盐
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舆水地盐
;
山泽阳平
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山泽阳平
.
中国专利
:CN102522304A
,2012-06-27
[10]
等离子体处理装置和等离子体处理方法
[P].
东条利洋
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东条利洋
;
藤井祐希
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藤井祐希
.
中国专利
:CN107275179A
,2017-10-20
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