离子源清洁方法及其装置

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN200980130611.5
申请日
2009-06-18
公开(公告)号
CN102113094A
公开(公告)日
2011-06-29
发明(设计)人
科斯特尔·拜洛 奎格·R·钱尼 艾利克·R·科布 本雄·具 威尔汉·P·普拉托
申请人
申请人地址
美国麻萨诸塞州
IPC主分类号
H01L21265
IPC分类号
代理机构
北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205
代理人
臧建明
法律状态
发明专利申请公布后的驳回
国省代码
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共 50 条
[1]
离子源及其清洁方法 [P]. 
足立昌和 ;
平井裕也 ;
谷口智哉 .
中国专利 :CN111640639A ,2020-09-08
[2]
离子源及其清洁方法 [P]. 
足立昌和 ;
平井裕也 ;
谷口智哉 .
日本专利 :CN111640639B ,2024-03-22
[3]
离子源电极的清洁装置 [P]. 
松本武 ;
中尾和浩 ;
厚主诚 .
中国专利 :CN103094028A ,2013-05-08
[4]
离子源 [P]. 
加里·普劳德富特 ;
戈登·罗伯特·格林 ;
罗伯特·肯尼思·特罗韦尔 .
中国专利 :CN101490789A ,2009-07-22
[5]
离子源 [P]. 
P·班克斯 .
中国专利 :CN1922709A ,2007-02-28
[6]
六氟化硫远程清洁等离子源 [P]. 
崔寿永 ;
王群华 .
中国专利 :CN1782133A ,2006-06-07
[7]
离子源清洗装置 [P]. 
陈佳尊 ;
胡国栋 ;
王培红 ;
李晨光 .
中国专利 :CN206477018U ,2017-09-08
[8]
离子源(霍尔) [P]. 
缪同群 ;
谢圣鸣 .
中国专利 :CN307391274S ,2022-06-07
[9]
等离子源 [P]. 
江部明宪 .
日本专利 :CN112702829B ,2025-08-15
[10]
射频离子源 [P]. 
M·L·朗福德 ;
S·N·凯恩斯 ;
A·J·马 ;
I·B·普利桑茨 .
中国专利 :CN1529898A ,2004-09-15