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化学机械平坦化工具
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN202010542306.5
申请日
:
2020-06-15
公开(公告)号
:
CN112238395A
公开(公告)日
:
2021-01-19
发明(设计)人
:
龚俊豪
王上瑜
蔡晴翔
黄惠琪
陈科维
申请人
:
申请人地址
:
中国台湾新竹市
IPC主分类号
:
B24B3710
IPC分类号
:
B24B3704
B24B3732
H01L21768
代理机构
:
隆天知识产权代理有限公司 72003
代理人
:
聂慧荃;闫华
法律状态
:
发明专利申请公布后的视为撤回
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2022-12-27
发明专利申请公布后的视为撤回
发明专利申请公布后的视为撤回 IPC(主分类):B24B 37/10 申请公布日:20210119
2021-01-19
公开
公开
共 50 条
[1]
化学机械平坦化工具
[P].
颜宏
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颜宏
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廖高锋
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廖高锋
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何信颖
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何信颖
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萧钧文
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萧钧文
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庄胜超
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庄胜超
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张庭熏
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张庭熏
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黄富明
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黄富明
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林均洁
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林均洁
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张简鹏崇
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张简鹏崇
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崔骥
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崔骥
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陈亮光
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陈亮光
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陈志宏
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陈志宏
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陈科维
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陈科维
.
中国专利
:CN112405335A
,2021-02-26
[2]
化学机械平坦化工具和形成化学机械平坦化膜的方法
[P].
陈政炳
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陈政炳
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李仁铎
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李仁铎
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彭升泰
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彭升泰
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赖宗龙
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赖宗龙
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谢子逸
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谢子逸
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张建玮
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张建玮
.
中国专利
:CN109623630B
,2019-04-16
[3]
化学机械平坦化工具、监控缺陷系统与其方法
[P].
侯德谦
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台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
侯德谦
;
唐祯玑
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台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
唐祯玑
;
沈稘翔
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台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
沈稘翔
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林政锜
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台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
林政锜
;
吴振豪
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台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
吴振豪
;
孙旭昌
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台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
孙旭昌
.
中国专利
:CN118528175A
,2024-08-23
[4]
化学机械平坦化系统
[P].
陈世忠
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陈世忠
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林奕劭
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林奕劭
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彭升泰
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彭升泰
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薛雅仁
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薛雅仁
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陈鸿霖
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陈鸿霖
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李仁铎
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李仁铎
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中国专利
:CN111230731A
,2020-06-05
[5]
化学机械平坦化设备
[P].
张庭熏
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张庭熏
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颜宏
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颜宏
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沈稘翔
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沈稘翔
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黄富明
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黄富明
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林均洁
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林均洁
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张宗宪
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张宗宪
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崔骥
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崔骥
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陈亮光
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陈亮光
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陈志宏
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陈志宏
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陈科维
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陈科维
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中国专利
:CN113134783A
,2021-07-20
[6]
化学机械研磨浆液与化学机械平坦化方法
[P].
侯惠芳
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侯惠芳
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刘文政
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刘文政
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陈彦良
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陈彦良
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陈瑞清
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陈瑞清
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中国专利
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,2008-07-16
[7]
提高化学机械平坦化工艺均匀性的方法
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杨涛
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杨涛
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赵超
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赵超
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李俊峰
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李俊峰
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侯瑞兵
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侯瑞兵
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卢一泓
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卢一泓
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崔虎山
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崔虎山
.
中国专利
:CN103377911A
,2013-10-30
[8]
化学机械平坦化装置
[P].
徐峥
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机构:
杭州众硅电子科技有限公司
杭州众硅电子科技有限公司
徐峥
.
中国专利
:CN308996880S
,2024-12-10
[9]
用于化学机械平坦化的修整工具和技术
[P].
T·普萨纳甘达
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T·普萨纳甘达
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黄太郁
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黄太郁
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S·拉马纳坦
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S·拉马纳坦
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E·舒尔策
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E·舒尔策
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J·G·巴尔多尼
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J·G·巴尔多尼
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S·布利简
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S·布利简
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C·迪恩-恩戈克
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C·迪恩-恩戈克
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中国专利
:CN103252722A
,2013-08-21
[10]
用于化学机械平坦化的修整工具和技术
[P].
T·普萨纳甘达
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T·普萨纳甘达
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黄太郁
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黄太郁
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S·拉马纳坦
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E·舒尔策
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E·舒尔策
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J·G·巴尔多尼
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C·迪恩-恩戈克
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中国专利
:CN101563188A
,2009-10-21
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