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研磨盘的清洁装置和研磨设备
被引:0
专利类型
:
实用新型
申请号
:
CN202020892125.0
申请日
:
2020-05-25
公开(公告)号
:
CN212240562U
公开(公告)日
:
2020-12-29
发明(设计)人
:
郭宇轩
申请人
:
申请人地址
:
710065 陕西省西安市高新区锦业路1号都市之门A座1323室
IPC主分类号
:
B24B3734
IPC分类号
:
B24B3711
代理机构
:
北京银龙知识产权代理有限公司 11243
代理人
:
黄灿;顾春天
法律状态
:
授权
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2020-12-29
授权
授权
共 50 条
[1]
研磨盘和研磨设备
[P].
杨双泽
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
通威微电子有限公司
通威微电子有限公司
杨双泽
.
中国专利
:CN223431434U
,2025-10-14
[2]
研磨盘清洁装置
[P].
唐彬
论文数:
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0
唐彬
;
帅俊平
论文数:
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帅俊平
.
中国专利
:CN204195517U
,2015-03-11
[3]
研磨盘清洁装置
[P].
樊明溪
论文数:
0
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0
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0
机构:
西安奕斯伟材料科技股份有限公司
西安奕斯伟材料科技股份有限公司
樊明溪
.
中国专利
:CN220804639U
,2024-04-19
[4]
限位研磨盘和研磨设备
[P].
曾建武
论文数:
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曾建武
;
刘宏亮
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刘宏亮
;
刘格
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刘格
;
徐虎
论文数:
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0
徐虎
.
中国专利
:CN207223700U
,2018-04-13
[5]
研磨盘清洁装置
[P].
唐彬
论文数:
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唐彬
;
帅俊平
论文数:
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帅俊平
.
中国专利
:CN105437078A
,2016-03-30
[6]
研磨盘和研磨装置
[P].
鲁欢欢
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机构:
东莞市康博机械有限公司
东莞市康博机械有限公司
鲁欢欢
.
中国专利
:CN222570356U
,2025-03-07
[7]
上研磨盘和下研磨盘
[P].
胡林宝
论文数:
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胡林宝
.
中国专利
:CN202029051U
,2011-11-09
[8]
研磨盘和研磨装置
[P].
顾浩
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机构:
上海积塔半导体有限公司
上海积塔半导体有限公司
顾浩
;
杨俊男
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机构:
上海积塔半导体有限公司
上海积塔半导体有限公司
杨俊男
;
闫晓晖
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机构:
上海积塔半导体有限公司
上海积塔半导体有限公司
闫晓晖
.
中国专利
:CN118700019A
,2024-09-27
[9]
双面研磨机研磨盘面清洁装置
[P].
郑东
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郑东
;
肖迪
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肖迪
;
王鑫
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王鑫
.
中国专利
:CN209754878U
,2019-12-10
[10]
光纤阵列研磨盘夹具和光纤阵列研磨设备
[P].
朴木孝旭
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朴木孝旭
;
冯忠云
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冯忠云
;
梁翻源
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梁翻源
.
中国专利
:CN215547579U
,2022-01-18
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