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等离子体处理装置
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN201811085673.6
申请日
:
2018-09-18
公开(公告)号
:
CN110600355B
公开(公告)日
:
2019-12-20
发明(设计)人
:
翁志强
蔡陈德
丁嘉仁
徐瑞美
李祐升
刘志宏
申请人
:
申请人地址
:
中国台湾新竹县竹东镇中兴路4段195号
IPC主分类号
:
H01J3732
IPC分类号
:
B24B3712
代理机构
:
中科专利商标代理有限责任公司 11021
代理人
:
任岩
法律状态
:
授权
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2021-12-24
授权
授权
2020-01-14
实质审查的生效
实质审查的生效 IPC(主分类):H01J 37/32 申请日:20180918
2019-12-20
公开
公开
共 50 条
[1]
等离子体处理装置和等离子体处理方法
[P].
南象基
论文数:
0
引用数:
0
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0
南象基
;
林成龙
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林成龙
;
刘钒镇
论文数:
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刘钒镇
;
宣钟宇
论文数:
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宣钟宇
;
韩奎熙
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0
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韩奎熙
;
许桄熀
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许桄熀
;
韩济愚
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0
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韩济愚
.
中国专利
:CN109559967A
,2019-04-02
[2]
等离子体处理装置及等离子体处理方法
[P].
叶如彬
论文数:
0
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叶如彬
;
梁洁
论文数:
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梁洁
;
浦远
论文数:
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浦远
.
中国专利
:CN104733278A
,2015-06-24
[3]
等离子体处理装置
[P].
李金娟
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0
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0
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0
李金娟
.
中国专利
:CN213093171U
,2021-04-30
[4]
等离子体处理装置
[P].
松村浩
论文数:
0
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0
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0
松村浩
.
中国专利
:CN1226740A
,1999-08-25
[5]
等离子体处理装置
[P].
孙亨圭
论文数:
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0
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孙亨圭
.
中国专利
:CN102646569B
,2012-08-22
[6]
等离子体处理装置
[P].
梁洁
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梁洁
;
叶如彬
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叶如彬
.
中国专利
:CN104217914B
,2014-12-17
[7]
等离子体处理装置
[P].
李弘瑞
论文数:
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机构:
上海积塔半导体有限公司
上海积塔半导体有限公司
李弘瑞
;
叶靖
论文数:
0
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机构:
上海积塔半导体有限公司
上海积塔半导体有限公司
叶靖
.
中国专利
:CN222883482U
,2025-05-16
[8]
等离子体处理装置
[P].
倪图强
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0
引用数:
0
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0
倪图强
.
中国专利
:CN201465987U
,2010-05-12
[9]
等离子体处理装置
[P].
孙溯
论文数:
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孙溯
;
彭帆
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彭帆
;
张二辉
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张二辉
.
中国专利
:CN207731900U
,2018-08-14
[10]
等离子体处理装置
[P].
刘洋
论文数:
0
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0
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刘洋
.
中国专利
:CN213184200U
,2021-05-11
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