等离子体处理装置

被引：0

专利类型：

实用新型

申请号：

CN202421754895.3

申请日：

2024-07-23

公开(公告)号：

CN222883482U

公开(公告)日：

2025-05-16

发明(设计)人：

李弘瑞叶靖

申请人：

上海积塔半导体有限公司

申请人地址：

201306 上海市浦东新区中国（上海）自由贸易试验区临港新片区云水路600号

IPC主分类号：

H01J37/32

IPC分类号：

H01J37/20 H01L21/687 H01L21/67

代理机构：

华进联合专利商标代理有限公司 44224

代理人：

孙亚杰

法律状态：

授权

国省代码：

上海市

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2025-05-16	授权	授权

共 50 条

[1]

等离子体处理装置 [P].

李金娟 .

中国专利 :CN213093171U ,2021-04-30

[2]

等离子体处理装置 [P].

孙溯 ;

彭帆 ;

张二辉 .

中国专利 :CN207731900U ,2018-08-14

[3]

等离子体处理装置 [P].

刘洋 .

中国专利 :CN213184200U ,2021-05-11

[4]

等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P].

南象基 ;

林成龙 ;

刘钒镇 ;

宣钟宇 ;

韩奎熙 ;

许桄熀 ;

韩济愚 .

中国专利 :CN109559967A ,2019-04-02

[5]

等离子体处理装置及等离子体处理方法 [P].

叶如彬 ;

梁洁 ;

浦远 .

中国专利 :CN104733278A ,2015-06-24

[6]

等离子体处理装置 [P].

松村浩 .

中国专利 :CN1226740A ,1999-08-25

[7]

等离子体处理装置 [P].

孙亨圭 .

中国专利 :CN102646569B ,2012-08-22

[8]

等离子体处理装置 [P].

梁洁 ;

叶如彬 .

中国专利 :CN104217914B ,2014-12-17

[9]

等离子体处理装置 [P].

倪图强 .

中国专利 :CN201465987U ,2010-05-12

[10]

等离子体处理装置 [P].

翁志强 ;

蔡陈德 ;

丁嘉仁 ;

徐瑞美 ;

李祐升 ;

刘志宏 .

中国专利 :CN110600355B ,2019-12-20

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