金属氧化物-金属复合溅射靶

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201080041069.9

申请日：

2010-09-15

公开(公告)号：

CN102498233A

公开(公告)日：

2012-06-13

发明(设计)人：

松崎均高木胜寿慈幸范洋得平雅也

申请人：

申请人地址：

日本国兵库县

IPC主分类号：

C23C1434

IPC分类号：

G11B726

代理机构：

中科专利商标代理有限责任公司 11021

代理人：

翟赟琪

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2012-07-18	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101298511972 IPC(主分类):C23C 14/34 专利申请号:2010800410699 申请日:20100915
2012-06-13	公开	公开
2015-05-27	发明专利申请公布后的驳回	发明专利申请公布后的驳回号牌文件类型代码:1602 号牌文件序号:101715632480 IPC(主分类):C23C 14/34 专利申请号:2010800410699 申请公布日:20120613

共 50 条

[1]

溅射靶材及导电金属氧化物薄膜 [P].

卢明昌 ;

尹新淳 ;

张智咏 ;

曾浤豪 .

中国专利 :CN103849842B ,2014-06-11

[2]

氧化物溅射靶及氧化物溅射靶的制造方法 [P].

野中荘平 ;

森理恵 ;

长尾昌芳 .

中国专利 :CN110352263A ,2019-10-18

[3]

氧化物溅射靶 [P].

山口刚 ;

木内香歩 ;

陆田雄也 .

中国专利 :CN114127029A ,2022-03-01

[4]

氧化物溅射靶及氧化物溅射靶的制造方法 [P].

陆田雄也 ;

梅本启太 .

中国专利 :CN114616218A ,2022-06-10

[5]

氧化物溅射靶及氧化物溅射靶的制造方法 [P].

梅本启太 ;

陆田雄也 ;

白井孝典 ;

井尾谦介 .

中国专利 :CN112567065A ,2021-03-26

[6]

氧化物溅射靶材 [P].

玉田悠 ;

齐藤和也 ;

上坂修治郎 ;

熊谷友正 .

中国专利 :CN106435492A ,2017-02-22

[7]

溅射靶材及氧化金属薄膜 [P].

卢明昌 ;

郭芝吟 ;

尹新淳 ;

张智咏 .

中国专利 :CN103540895A ,2014-01-29

[8]

氧化物膜和氧化物溅射靶 [P].

山本浩由 ;

奈良淳史 .

日本专利 :CN118401695A ,2024-07-26

[9]

氧化物溅射靶和氧化物膜 [P].

宗安慧 ;

奈良淳史 ;

大友大干 .

日本专利 :CN120603983A ,2025-09-05

[10]

烧结氧化物溅射靶组件 [P].

石塚庆一 .

中国专利 :CN1287578A ,2001-03-14

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