等离子体增强化学气相沉积系统

被引:0
专利类型
实用新型
申请号
CN201920994978.2
申请日
2019-06-28
公开(公告)号
CN210458364U
公开(公告)日
2020-05-05
发明(设计)人
王家平 霍冬冬
申请人
申请人地址
116000 辽宁省大连市经济技术开发区淮河东路
IPC主分类号
C23C1650
IPC分类号
代理机构
北京永新同创知识产权代理有限公司 11376
代理人
刘兴鹏
法律状态
授权
国省代码
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共 50 条
[1]
等离子体增强化学气相沉积设备 [P]. 
左凯峰 ;
季徐华 ;
王根江 .
中国专利 :CN201560236U ,2010-08-25
[2]
等离子体增强化学气相沉积设备 [P]. 
张金中 .
中国专利 :CN202246858U ,2012-05-30
[3]
用于等离子体增强化学气相沉积的设备 [P]. 
马建奎 .
中国专利 :CN204982047U ,2016-01-20
[4]
等离子体增强化学气相沉积设备 [P]. 
姜杉 ;
李建东 ;
杨志永 .
中国专利 :CN201587981U ,2010-09-22
[5]
等离子体增强化学气相沉积设备 [P]. 
欧阳亮 .
中国专利 :CN120231033A ,2025-07-01
[6]
等离子体增强化学气相沉积设备 [P]. 
吴斌 .
中国专利 :CN222935510U ,2025-06-03
[7]
等离子体增强化学气相沉积装置 [P]. 
苏同上 ;
王东方 ;
杜生平 ;
袁广才 .
中国专利 :CN205556778U ,2016-09-07
[8]
等离子体增强化学气相沉积设备 [P]. 
洪性喆 ;
李万镐 .
中国专利 :CN104769156A ,2015-07-08
[9]
等离子体增强化学气相沉积装置 [P]. 
何艾华 ;
朱太荣 ;
张武 .
中国专利 :CN119876915A ,2025-04-25
[10]
等离子体增强化学气相沉积装置 [P]. 
何怀亮 .
中国专利 :CN207918951U ,2018-09-28