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等离子体增强化学气相沉积系统
被引:0
专利类型
:
实用新型
申请号
:
CN201920994978.2
申请日
:
2019-06-28
公开(公告)号
:
CN210458364U
公开(公告)日
:
2020-05-05
发明(设计)人
:
王家平
霍冬冬
申请人
:
申请人地址
:
116000 辽宁省大连市经济技术开发区淮河东路
IPC主分类号
:
C23C1650
IPC分类号
:
代理机构
:
北京永新同创知识产权代理有限公司 11376
代理人
:
刘兴鹏
法律状态
:
授权
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2020-05-05
授权
授权
共 50 条
[1]
等离子体增强化学气相沉积设备
[P].
左凯峰
论文数:
0
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0
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左凯峰
;
季徐华
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季徐华
;
王根江
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0
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王根江
.
中国专利
:CN201560236U
,2010-08-25
[2]
等离子体增强化学气相沉积设备
[P].
张金中
论文数:
0
引用数:
0
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0
张金中
.
中国专利
:CN202246858U
,2012-05-30
[3]
用于等离子体增强化学气相沉积的设备
[P].
马建奎
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0
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0
马建奎
.
中国专利
:CN204982047U
,2016-01-20
[4]
等离子体增强化学气相沉积设备
[P].
姜杉
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姜杉
;
李建东
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李建东
;
杨志永
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杨志永
.
中国专利
:CN201587981U
,2010-09-22
[5]
等离子体增强化学气相沉积设备
[P].
欧阳亮
论文数:
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机构:
理想万里晖半导体设备(上海)股份有限公司
理想万里晖半导体设备(上海)股份有限公司
欧阳亮
.
中国专利
:CN120231033A
,2025-07-01
[6]
等离子体增强化学气相沉积设备
[P].
吴斌
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机构:
通威太阳能(金堂)有限公司
通威太阳能(金堂)有限公司
吴斌
.
中国专利
:CN222935510U
,2025-06-03
[7]
等离子体增强化学气相沉积装置
[P].
苏同上
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苏同上
;
王东方
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王东方
;
杜生平
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杜生平
;
袁广才
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袁广才
.
中国专利
:CN205556778U
,2016-09-07
[8]
等离子体增强化学气相沉积设备
[P].
洪性喆
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洪性喆
;
李万镐
论文数:
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李万镐
.
中国专利
:CN104769156A
,2015-07-08
[9]
等离子体增强化学气相沉积装置
[P].
何艾华
论文数:
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机构:
拉普拉斯新能源科技股份有限公司
拉普拉斯新能源科技股份有限公司
何艾华
;
朱太荣
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机构:
拉普拉斯新能源科技股份有限公司
拉普拉斯新能源科技股份有限公司
朱太荣
;
张武
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机构:
拉普拉斯新能源科技股份有限公司
拉普拉斯新能源科技股份有限公司
张武
.
中国专利
:CN119876915A
,2025-04-25
[10]
等离子体增强化学气相沉积装置
[P].
何怀亮
论文数:
0
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何怀亮
.
中国专利
:CN207918951U
,2018-09-28
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