CVD反应器的排气机构

被引：0

申请号：

CN202080070943.5

申请日：

2020-10-08

公开(公告)号：

CN114555858A

公开(公告)日：

2022-05-27

发明(设计)人：

M.科尔伯格 M.穆基诺维奇 T.W.巴斯特克 F.鲁达耶维特

申请人：

申请人地址：

德国黑措根拉特

IPC主分类号：

C23C1644

IPC分类号：

C23C16455

代理机构：

北京市柳沈律师事务所 11105

代理人：

任丽荣

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2022-05-27	公开	公开

共 50 条

[1]

CVD反应器的排气机构 [P].

M.科尔伯格 ;

M.穆基诺维奇 ;

T.W.巴斯特克 ;

F.鲁达耶维特 .

德国专利 :CN114555858B ,2024-11-01

[2]

CVD反应器的进气机构 [P].

H.席尔瓦 ;

N.朱奥尔特 ;

V.塞韦尔 ;

F.克劳利 ;

M.道尔斯伯格 ;

J.林德纳 .

中国专利 :CN103649369B ,2014-03-19

[3]

用于CVD反应器的进气机构 [P].

H.蒋 .

英国专利 :CN115176046B ,2025-09-16

[4]

用于CVD反应器的进气机构 [P].

A·博伊德 ;

F·M·A·克劳利 ;

D·迈耶 .

德国专利 :CN117413086A ,2024-01-16

[5]

CVD反应器的具有重量减小的排气板的进气机构 [P].

B.P.戈皮 ;

M.朗 ;

M.格斯多夫 .

中国专利 :CN105899709B ,2016-08-24

[6]

CVD反应器的排气装置 [P].

亚历山大·I·居拉瑞 .

中国专利 :CN103140602A ,2013-06-05

[7]

CVD反应器和清洁CVD反应器的方法 [P].

M.科尔伯格 ;

W.J.T.克鲁克肯 ;

F.鲁达伊威特 ;

M.德费尔 ;

M.普菲斯特雷尔 .

中国专利 :CN109844174B ,2019-06-04

[8]

CVD反应器和用于CVD反应器的基板支架 [P].

A.博伊德 ;

D.克莱森斯 ;

H.希尔瓦 .

中国专利 :CN104053816A ,2014-09-17

[9]

具有被屏蔽板装置遮盖的进气机构的CVD反应器 [P].

J.奥道德 .

中国专利 :CN113166940A ,2021-07-23

[10]

具有被屏蔽板装置遮盖的进气机构的CVD反应器 [P].

J.奥道德 .

德国专利 :CN113166940B ,2024-06-04

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