一种紫外纳米压印光刻自动脱模系统

被引：0

专利类型：

实用新型

申请号：

CN202020987741.4

申请日：

2020-06-03

公开(公告)号：

CN213149470U

公开(公告)日：

2021-05-07

发明(设计)人：

龚健文胡松于军胜赵立新杨勇杜婧

申请人：

申请人地址：

610209 四川省成都市双流350信箱

IPC主分类号：

G03F700

IPC分类号：

代理机构：

代理人：

法律状态：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2021-05-07	授权	授权

共 50 条

[1]

一种紫外纳米压印光刻自动脱模系统和方法 [P].

龚健文 ;

胡松 ;

于军胜 ;

赵立新 ;

杨勇 ;

杜婧 .

中国专利 :CN111522197B ,2024-04-02

[2]

一种紫外纳米压印光刻自动脱模系统和方法 [P].

龚健文 ;

胡松 ;

于军胜 ;

赵立新 ;

杨勇 ;

杜婧 .

中国专利 :CN111522197A ,2020-08-11

[3]

一种简易紫外纳米压印光刻装置 [P].

兰俊 ;

刘锡 ;

杨勇 ;

陈磊 ;

余斯洋 ;

龚健文 ;

赵立新 ;

胡松 .

中国专利 :CN113031391A ,2021-06-25

[4]

一种纳米压印光刻机 [P].

不公告发明人 .

中国专利 :CN215297936U ,2021-12-24

[5]

一种纳米压印用自动脱模装置 [P].

李晓军 ;

史瑞城 .

中国专利 :CN215867497U ,2022-02-18

[6]

一种高精度纳米压印光刻设备 [P].

蔡胜 ;

关成刚 ;

黄豆 .

中国专利 :CN216248761U ,2022-04-08

[7]

一种新型纳米压印光刻机 [P].

孙立 ;

胡金鑫 ;

刘晖 .

中国专利 :CN214704307U ,2021-11-12

[8]

一种紫外纳米压印系统 [P].

谢惠民 ;

唐敏锦 ;

戴相录 ;

张建民 .

中国专利 :CN102944976A ,2013-02-27

[9]

一种纳米压印脱模装置 [P].

刘守航 ;

袁万利 ;

吴郁清 ;

侯洋昆 .

中国专利 :CN223092292U ,2025-07-11

[10]

一种可自动脱模的纳米压印设备 [P].

冀然 .

中国专利 :CN211492476U ,2020-09-15

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