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液滴喷出装置、喷头的清洁方法、电光学装置的制造方法、电光学装置及电子设备
被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN200510092003.3
申请日：
2005-08-16
公开(公告)号：
CN1745903A
公开(公告)日：
2006-03-15
发明(设计)人：
岩田裕二
申请人：
申请人地址：
日本东京
IPC主分类号：
B05B900
IPC分类号：
B05B1502
B41J2165
代理机构：
中科专利商标代理有限责任公司
代理人：
李香兰
法律状态：
公开
国省代码：
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法律状态
| 法律状态公告日 | 法律状态 | 法律状态信息 |
| 2006-03-15 | 公开 | 公开 |
| 2008-07-09 | 发明专利申请公布后的视为撤回 | 发明专利申请公布后的视为撤回 |
| 2006-05-10 | 实质审查的生效 | 实质审查的生效 |