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一种适用于去除正负光刻胶的清洗液
被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN201910938660.7
申请日：
2019-09-30
公开(公告)号：
CN112578647A
公开(公告)日：
2021-03-30
发明(设计)人：
孙广胜
刘兵
周前付
申请人：
申请人地址：
201201 上海市浦东新区华东路5001号金桥出口加工区（南区）T6－9幢底层
IPC主分类号：
G03F742
IPC分类号：
代理机构：
北京大成律师事务所 11352
代理人：
李佳铭;王芳
法律状态：
公开
国省代码：
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法律状态
| 法律状态公告日 | 法律状态 | 法律状态信息 |
| 2021-03-30 | 公开 | 公开 |
| 2022-09-13 | 实质审查的生效 | 实质审查的生效 IPC(主分类):G03F 7/42 申请日:20190930 |