一种去除光刻胶残留物的清洗液

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201911319064.7

申请日：

2019-12-19

公开(公告)号：

CN113009793B

公开(公告)日：

2025-03-04

发明(设计)人：

孙广胜刘兵彭洪修周前付徐海玉

申请人：

安集微电子科技（上海）股份有限公司

申请人地址：

201201 上海市浦东新区华东路5001号金桥出口加工区（南区）T6－9幢底层

IPC主分类号：

G03F7/42

IPC分类号：

代理机构：

上海市建纬律师事务所 31579

代理人：

李佳铭;王芳

法律状态：

授权

国省代码：

上海市市辖区

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2025-03-04	授权	授权

共 50 条

[1]

一种去除光刻胶残留物的清洗液 [P].

孙广胜 ;

刘兵 ;

彭洪修 ;

周前付 ;

徐海玉 .

中国专利 :CN113009793A ,2021-06-22

[2]

一种低蚀刻的去除光刻胶残留物的清洗液 [P].

何春阳 ;

刘兵 ;

王鹏程 .

中国专利 :CN106933068A ,2017-07-07

[3]

一种去除光刻胶残留物的清洗液 [P].

刘兵 ;

彭洪修 ;

孙广胜 ;

颜金荔 ;

徐海玉 .

中国专利 :CN103809392B ,2014-05-21

[4]

一种光刻胶清洗液 [P].

孙广胜 ;

刘兵 ;

徐海玉 .

中国专利 :CN108255027A ,2018-07-06

[5]

一种光刻胶清洗液 [P].

孙广胜 ;

刘兵 ;

徐海玉 .

中国专利 :CN108255027B ,2024-04-12

[6]

一种适用于去除正负光刻胶的清洗液 [P].

孙广胜 ;

刘兵 ;

周前付 .

中国专利 :CN112578647B ,2025-03-14

[7]

一种适用于去除正负光刻胶的清洗液 [P].

孙广胜 ;

刘兵 ;

周前付 .

中国专利 :CN112578647A ,2021-03-30

[8]

一种光刻胶清洗液 [P].

孙广胜 ;

刘兵 ;

张维棚 ;

周前付 ;

赵鹏 .

中国专利 :CN111381458A ,2020-07-07

[9]

一种光刻胶清洗液 [P].

孙广胜 ;

刘兵 ;

郑玢 ;

黄达辉 .

中国专利 :CN105573069A ,2016-05-11

[10]

一种光刻胶清洗液 [P].

孙广胜 ;

刘兵 ;

张维棚 ;

周前付 ;

赵鹏 .

中国专利 :CN111381459A ,2020-07-07

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