一种半导体器件的缺陷扫描方法及扫描装置

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专利类型
发明
申请号
CN201710061545.7
申请日
2017-01-26
公开(公告)号
CN108364879A
公开(公告)日
2018-08-03
发明(设计)人
刘玄 伍强 刘畅 陈思思
申请人
申请人地址
201203 上海市浦东新区张江路18号
IPC主分类号
H01L2166
IPC分类号
代理机构
北京市磐华律师事务所 11336
代理人
高伟;冯永贞
法律状态
实质审查的生效
国省代码
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共 50 条
[1]
半导体器件及扫描测试方法 [P]. 
前田洋一 ;
松嶋润 ;
和田弘树 .
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马宣 ;
王兆民 ;
方兆翔 ;
曹炳辰 ;
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[3]
半导体器件及形成半导体器件的方法 [P]. 
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[4]
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张向非 ;
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[5]
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杜珊珊 ;
黄怡 ;
赵林林 .
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[6]
扫描装置的扫描方法及扫描装置 [P]. 
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赵明杰 ;
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[7]
一种防缺陷的半导体器件蚀刻方法及半导体器件形成方法 [P]. 
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[8]
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[9]
半导体器件检查方法及半导体器件检查装置 [P]. 
茅根慎通 ;
中村共则 ;
嶋瀬朗 ;
江浦茂 .
中国专利 :CN115552261A ,2022-12-30
[10]
半导体器件的缺陷检测方法 [P]. 
林龙辉 ;
陈嘉云 ;
罗先得 .
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