等离子体处理方法和等离子体处理装置

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201410016335.2

申请日：

2014-01-14

公开(公告)号：

CN103928285B

公开(公告)日：

2014-07-16

发明(设计)人：

胜沼隆幸本田昌伸市川裕展

申请人：

申请人地址：

日本东京都

IPC主分类号：

H01J3732

IPC分类号：

H05H146

代理机构：

北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277

代理人：

刘新宇;张会华

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2014-08-13	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101584391729 IPC(主分类):H01J 37/32 专利申请号:2014100163352 申请日:20140114
2014-07-16	公开	公开
2016-08-17	授权	授权

共 50 条

[1]

等离子体处理方法和等离子体处理装置 [P].

平山祐介 ;

宫川正章 .

中国专利 :CN106463389B ,2017-02-22

[2]

等离子体处理方法和等离子体处理装置 [P].

原田彰俊 ;

林彦廷 ;

陈智轩 ;

谢如嘉 ;

米田滋 .

中国专利 :CN104603917B ,2015-05-06

[3]

等离子体处理方法和等离子体处理装置 [P].

平山祐介 ;

宫川正章 .

中国专利 :CN106605292A ,2017-04-26

[4]

等离子体处理方法和等离子体处理装置 [P].

李诚泰 ;

土桥和也 .

中国专利 :CN102347231B ,2012-02-08

[5]

等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P].

舆水地盐 ;

山泽阳平 .

中国专利 :CN102522304A ,2012-06-27

[6]

等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P].

东条利洋 ;

藤井祐希 .

中国专利 :CN107275179A ,2017-10-20

[7]

等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P].

堀口贵弘 ;

冈信介 .

中国专利 :CN100536634C ,2006-11-15

[8]

等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P].

金子和史 .

中国专利 :CN114302547A ,2022-04-08

[9]

等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P].

塚原利也 ;

山边周平 ;

谷地晃汰 ;

佐藤徹治 ;

内田阳平 ;

铃木步太 ;

田村洋典 ;

花冈秀敏 ;

佐佐木淳一 .

日本专利 :CN111261511B ,2024-06-18

[10]

等离子体处理方法和等离子体处理装置 [P].

相内优太 ;

及川弘太 .

日本专利 :CN120642032A ,2025-09-12

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