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一种低吸油值高比表面积磨擦型二氧化硅及其制备方法
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN201910010477.0
申请日
:
2019-01-02
公开(公告)号
:
CN109485054A
公开(公告)日
:
2019-03-19
发明(设计)人
:
任振雪
梁少彬
高文颖
林英光
李丽峰
申请人
:
申请人地址
:
510663 广东省广州市黄埔区茅岗村坑田大街32号鱼珠智谷E-PARK创意园A10号
IPC主分类号
:
C01B3318
IPC分类号
:
A61K825
A61Q1100
代理机构
:
广州胜沃园专利代理有限公司 44416
代理人
:
张帅
法律状态
:
公开
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2019-03-19
公开
公开
2019-04-12
实质审查的生效
实质审查的生效 IPC(主分类):C01B 33/18 申请日:20190102
2019-10-01
授权
授权
共 50 条
[1]
一种高吸油值低比表面积二氧化硅及其制备方法
[P].
马逸梅
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马逸梅
;
曹晓庆
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曹晓庆
;
张文证
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张文证
.
中国专利
:CN114132938B
,2022-03-04
[2]
一种高比表面积高吸油值二氧化硅的制备方法
[P].
昌娅琪
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昌娅琪
;
林英光
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林英光
;
张梦梅
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张梦梅
;
庹文喜
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庹文喜
;
胡荷燕
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胡荷燕
.
中国专利
:CN107324346A
,2017-11-07
[3]
一种低比表面积高吸油值磨擦型二氧化硅及其制备方法
[P].
庹文喜
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庹文喜
;
胡荷燕
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胡荷燕
;
林英光
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林英光
;
张梦梅
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张梦梅
;
候灿明
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候灿明
.
中国专利
:CN108190900A
,2018-06-22
[4]
一种低吸油值、高比表面积的二氧化硅的制备方法
[P].
任振雪
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任振雪
;
马逸敏
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马逸敏
;
梁少彬
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梁少彬
;
胡非
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胡非
;
林英光
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林英光
.
中国专利
:CN111484024B
,2020-08-04
[5]
一种高比表面积低吸油值二氧化硅的制备方法及其产品
[P].
雷茂生
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雷茂生
;
雷延熙
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雷延熙
.
中国专利
:CN111573683B
,2020-08-25
[6]
一种高比表面积与高吸附VOC型二氧化硅及其制备方法
[P].
黄真
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黄真
;
任振雪
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任振雪
;
林英光
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林英光
;
高文颖
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高文颖
;
张梦梅
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张梦梅
.
中国专利
:CN109437211B
,2019-03-08
[7]
一种低比表面积二氧化硅的制备方法
[P].
洪清华
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洪清华
;
郑松玲
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郑松玲
;
王宪伟
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王宪伟
;
任振雪
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任振雪
;
赵国法
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赵国法
.
中国专利
:CN106829969A
,2017-06-13
[8]
一种低吸油、低比表面积二氧化硅的制备方法
[P].
任立荣
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任立荣
;
徐钰兴
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徐钰兴
;
陈仲林
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陈仲林
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徐功智
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徐功智
;
曾志恩
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曾志恩
.
中国专利
:CN115571886A
,2023-01-06
[9]
一种低比表面积高分散性增稠型二氧化硅及其制备方法
[P].
王宪伟
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王宪伟
;
郑松玲
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郑松玲
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庹文喜
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庹文喜
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李飞虎
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李飞虎
;
洪清华
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洪清华
.
中国专利
:CN109231221A
,2019-01-18
[10]
一种高比表面积纳米二氧化硅的制备方法
[P].
宋晓岚
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宋晓岚
;
江楠
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江楠
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邱冠周
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邱冠周
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李宇焜
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李宇焜
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杨华明
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杨华明
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金胜明
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金胜明
;
徐大余
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徐大余
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中国专利
:CN101172608B
,2008-05-07
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