高活性光催化剂

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN01821496.7

申请日：

2001-12-28

公开(公告)号：

CN100447188C

公开(公告)日：

2004-03-17

发明(设计)人：

田中淳三林正幸植吉义范萩原浩行

申请人：

申请人地址：

日本东京都

IPC主分类号：

C08K322

IPC分类号：

C01G3502 B01D5386 C08L10100 C09C136 C09D500 B05D500

代理机构：

北京市中咨律师事务所

代理人：

段承恩;刘金辉

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2004-03-17	公开	公开
2004-05-26	实质审查的生效	实质审查的生效
2008-12-31	授权	授权
2018-02-16	专利权的终止	未缴年费专利权终止 IPC(主分类):C08K 3/22 申请日:20011228 授权公告日:20081231 终止日期:20161228

共 50 条

[1]

一种高活性光催化剂 [P].

阎松 ;

张恒伟 ;

许维相 .

中国专利 :CN105251520A ,2016-01-20

[2]

光催化剂涂布液、光催化剂膜和光催化剂构件 [P].

田中尚树 ;

铃木宏和 ;

小池匡 .

中国专利 :CN100381527C ,2005-11-23

[3]

高活性光催化剂及其生产方法 [P].

田路和幸 ;

岸本章 ;

新子贵史 .

中国专利 :CN1671476A ,2005-09-21

[4]

光催化剂分散液、光催化剂复合材料及光催化剂装置 [P].

信田直美 ;

内藤胜之 ;

横田昌广 ;

千草尚 ;

太田英男 ;

大川猛 ;

荻原孝德 ;

猪又宏贵 .

中国专利 :CN110270343B ,2019-09-24

[5]

光催化剂分散液、光催化剂复合材料及光催化剂装置 [P].

内藤胜之 ;

信田直美 ;

横田昌广 ;

太田英男 ;

猪又宏贵 ;

千草尚 .

中国专利 :CN110893341A ,2020-03-20

[6]

光催化剂、光催化剂负载体、光催化剂的制造方法及光催化剂负载体的制造方法 [P].

胜又典亮 ;

松浦洋航 ;

和田昇 ;

阿部龙 ;

富田修 ;

繁光将也 .

中国专利 :CN110997140A ,2020-04-10

[7]

光催化剂模块、光催化剂模块的生产方法以及光催化剂反应装置 [P].

村田逞诠 ;

菊地真道 ;

樱井和寿 ;

阿部一雄 .

中国专利 :CN1378878A ,2002-11-13

[8]

光催化剂涂层 [P].

玉冈益健 .

中国专利 :CN102821944A ,2012-12-12

[9]

光催化剂构件 [P].

安崎利明 ;

木岛义文 .

中国专利 :CN100482346C ,2006-09-13

[10]

光催化剂构件 [P].

若生仁志 .

日本专利 :CN118891099A ,2024-11-01

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