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温度测定装置以及温度测定方法
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN201780090565.5
申请日
:
2017-05-15
公开(公告)号
:
CN110612436B
公开(公告)日
:
2019-12-24
发明(设计)人
:
滨野宽之
宫崎敬史
申请人
:
申请人地址
:
日本神奈川县
IPC主分类号
:
G01K701
IPC分类号
:
代理机构
:
北京集佳知识产权代理有限公司 11227
代理人
:
金雪梅;王海奇
法律状态
:
公开
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2019-12-24
公开
公开
2022-01-07
授权
授权
2020-01-17
实质审查的生效
实质审查的生效 IPC(主分类):G01K 7/01 申请日:20170515
共 50 条
[1]
温度测定装置以及温度测定方法
[P].
清水兴子
论文数:
0
引用数:
0
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0
清水兴子
;
池田阳
论文数:
0
引用数:
0
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池田阳
.
中国专利
:CN105938020A
,2016-09-14
[2]
温度测定装置以及温度测定方法
[P].
熊谷芳宏
论文数:
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机构:
横河电机株式会社
横河电机株式会社
熊谷芳宏
;
手塚信一郎
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机构:
横河电机株式会社
横河电机株式会社
手塚信一郎
;
松浦聪
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机构:
横河电机株式会社
横河电机株式会社
松浦聪
;
斋藤和也
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机构:
横河电机株式会社
横河电机株式会社
斋藤和也
.
日本专利
:CN117367620A
,2024-01-09
[3]
温度测定装置、温度测定方法以及温度衰减测定方法
[P].
圆山重直
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机构:
世美特株式会社
世美特株式会社
圆山重直
;
冈部孝裕
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机构:
世美特株式会社
世美特株式会社
冈部孝裕
;
井関祐也
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机构:
世美特株式会社
世美特株式会社
井関祐也
;
野中崇
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机构:
世美特株式会社
世美特株式会社
野中崇
;
古川琢磨
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机构:
世美特株式会社
世美特株式会社
古川琢磨
;
细川靖
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机构:
世美特株式会社
世美特株式会社
细川靖
;
田畑裕太郎
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机构:
世美特株式会社
世美特株式会社
田畑裕太郎
;
松舘直史
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机构:
世美特株式会社
世美特株式会社
松舘直史
;
中岛利宪
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机构:
世美特株式会社
世美特株式会社
中岛利宪
;
东雅也
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机构:
世美特株式会社
世美特株式会社
东雅也
;
折戸学
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0
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0
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机构:
世美特株式会社
世美特株式会社
折戸学
.
日本专利
:CN115917273B
,2025-08-26
[4]
温度分布测定装置以及温度分布测定方法
[P].
笠嶋丈夫
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笠嶋丈夫
;
宇野和史
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宇野和史
;
石锅稔
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石锅稔
;
只木恭子
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0
只木恭子
;
武井文雄
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0
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武井文雄
.
中国专利
:CN103733037B
,2014-04-16
[5]
温度分布测定系统、温度分布测定装置以及温度分布测定方法
[P].
笠嶋丈夫
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0
笠嶋丈夫
;
宇野和史
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宇野和史
;
石锅稔
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0
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石锅稔
;
只木恭子
论文数:
0
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只木恭子
;
武井文雄
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0
武井文雄
.
中国专利
:CN103782144A
,2014-05-07
[6]
半导体层的温度测定方法以及温度测定装置
[P].
Y·拉克拉斯
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0
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0
Y·拉克拉斯
.
中国专利
:CN103649702A
,2014-03-19
[7]
温度测定装置、温度测定系统和温度测定方法
[P].
小川润一
论文数:
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0
小川润一
;
宫崎俊一
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0
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0
宫崎俊一
.
中国专利
:CN112714863A
,2021-04-27
[8]
温度测定装置及温度测定方法
[P].
山本义典
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0
山本义典
;
坂部至
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0
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坂部至
;
屉冈英资
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0
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屉冈英资
.
中国专利
:CN100588923C
,2008-10-08
[9]
温度测定装置和温度测定方法
[P].
水野雅夫
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水野雅夫
;
平野贵之
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平野贵之
;
富久胜文
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富久胜文
.
中国专利
:CN101865734A
,2010-10-20
[10]
温度测定方法及温度测定装置
[P].
大重贵彦
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大重贵彦
.
中国专利
:CN104204744A
,2014-12-10
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