一种化学气相沉积系统

被引：0

专利类型：

实用新型

申请号：

CN201520068921.1

申请日：

2015-01-30

公开(公告)号：

CN204455284U

公开(公告)日：

2015-07-08

发明(设计)人：

张明福徐平卞楷周

申请人：

申请人地址：

201500 上海市金山区金山工业区大道100号1幢二楼208室

IPC主分类号：

C23C1644

IPC分类号：

代理机构：

隆天知识产权代理有限公司 72003

代理人：

冯志云

法律状态：

专利权人的姓名或者名称、地址的变更

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2020-09-01	专利权人的姓名或者名称、地址的变更	专利权人的姓名或者名称、地址的变更 IPC(主分类):C23C 16/44 变更事项:专利权人变更前:上海和辉光电股份有限公司变更后:上海和辉光电股份有限公司变更事项:地址变更前:201500 上海市金山区金山工业区大道100号1幢二楼208室变更后:201506 上海市金山区金山工业区九工路1568号
2015-07-08	授权	授权
2020-08-14	专利权人的姓名或者名称、地址的变更	专利权人的姓名或者名称、地址的变更 IPC(主分类):C23C 16/44 变更事项:专利权人变更前:上海和辉光电有限公司变更后:上海和辉光电股份有限公司变更事项:地址变更前:201500 上海市金山区金山工业区大道100号1幢二楼208室变更后:201500 上海市金山区金山工业区大道100号1幢二楼208室

共 50 条

[1]

化学气相沉积系统 [P].

南琦 ;

刘瑞 ;

邓敏 .

中国专利 :CN209162187U ,2019-07-26

[2]

化学气相沉积系统 [P].

胡丹 ;

朱刘 ;

余明 .

中国专利 :CN210104068U ,2020-02-21

[3]

一种化学气相沉积系统 [P].

郭国平 ;

杨晖 ;

李海欧 ;

曹刚 ;

肖明 ;

郭光灿 .

中国专利 :CN206607312U ,2017-11-03

[4]

一种化学气相沉积系统 [P].

廖雅婷 .

中国专利 :CN221371354U ,2024-07-19

[5]

一种化学气相沉积系统 [P].

靳恺 ;

方聪 ;

刘向平 ;

冯钊俊 ;

张露 ;

王雷 .

中国专利 :CN205821450U ,2016-12-21

[6]

一种化学气相沉积系统 [P].

陈志军 ;

曹卫 ;

康志卫 ;

王伟 .

中国专利 :CN216320950U ,2022-04-19

[7]

一种化学气相沉积系统 [P].

张建飞 ;

何思进 ;

盛兆亚 ;

吴兴华 .

中国专利 :CN215947403U ,2022-03-04

[8]

化学气相沉积系统、化学气相沉积系统的装置和化学气相沉积方法 [P].

N·P·德斯科维奇 ;

W·D·格罗夫 .

中国专利 :CN105369211A ,2016-03-02

[9]

化学气相沉积装置及化学气相沉积系统 [P].

杨耀辉 ;

胡文华 ;

梅治民 ;

王维维 ;

俞方旭 ;

席洪峰 ;

罗治湘 .

中国专利 :CN118086872A ,2024-05-28

[10]

化学气相沉积系统 [P].

方建中 ;

杨成傑 ;

郑祥炬 .

中国专利 :CN103374709A ,2013-10-30

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