反射成像设备和具有反射成像设备的移动装置

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201610987081.8

申请日：

2016-11-09

公开(公告)号：

CN106686285A

公开(公告)日：

2017-05-17

发明(设计)人：

朴景台崔钟喆

申请人：

申请人地址：

韩国京畿道水原市

IPC主分类号：

H04N5225

IPC分类号：

代理机构：

北京铭硕知识产权代理有限公司 11286

代理人：

胡江海;张川绪

法律状态：

公开

国省代码：

引用

下载

收藏

法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2017-05-17	公开	公开
2019-11-19	授权	授权
2017-06-09	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101726053620 IPC(主分类):H04N 5/225 专利申请号:2016109870818 申请日:20161109

共 50 条

[1]

非球面360°反射成像设备 [P].

郭山 .

中国专利 :CN204217030U ,2015-03-18

[2]

非球面360°反射成像设备及成像方法 [P].

郭山 .

中国专利 :CN105357418A ,2016-02-24

[3]

用于钻孔测量的反射成像设备 [P].

费尔南多·恩里克·埃斯特万芬克 ;

大卫·戈麦斯埃斯特万 ;

弗朗西斯科·乔斯·莱昂阿雷瓦洛 ;

路易斯·格拉内罗蒙塔古德 ;

马丁·桑兹萨巴特尔 ;

维森特·米科塞拉诺 ;

哈维尔·加西亚蒙雷亚尔 .

中国专利 :CN106123799A ,2016-11-16

[4]

辐射成像设备、辐射成像系统和制造辐射成像设备的方法 [P].

泽田觉 ;

井上正人 ;

竹田慎市 ;

石井孝昌 ;

武井大希 ;

秋山正喜 .

中国专利 :CN102608647B ,2012-07-25

[5]

放射成像设备和放射成像方法 [P].

小嵨进一 ;

梅垣菊男 ;

冈崎隆司 ;

雨宫健介 ;

北口博司 ;

上野雄一郎 .

中国专利 :CN1706346A ,2005-12-14

[6]

成像设备和辐射成像设备 [P].

石井孝昌 ;

望月千织 ;

渡边实 .

中国专利 :CN101375397A ,2009-02-25

[7]

放射成像设备和放射成像方法 [P].

小嶋进一 ;

梅垣菊男 ;

冈崎隆司 ;

雨宫健介 ;

北口博司 ;

上野雄一郎 .

中国专利 :CN1391870A ,2003-01-22

[8]

放射成像设备和放射成像方法 [P].

小嵨进一 ;

梅垣菊男 ;

冈崎隆司 ;

雨宫健介 ;

北口博司 ;

上野雄一郎 .

中国专利 :CN1706345A ,2005-12-14

[9]

辐射成像设备和辐射成像系统 [P].

江川陆 .

中国专利 :CN115144414A ,2022-10-04

[10]

太赫兹反射成像系统 [P].

H·雪莉 .

中国专利 :CN111971548A ,2020-11-20

← 1 2 3 4 5 →