脉冲激光沉积制备硅基金红石相TiO2薄膜的方法

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN200710053648.5
申请日
2007-10-19
公开(公告)号
CN101139701A
公开(公告)日
2008-03-12
发明(设计)人
杨光 陆培祥 龙华 戴能利 李玉华 杨振宇
申请人
申请人地址
430074湖北省武汉市洪山区珞瑜路1037号
IPC主分类号
C23C1424
IPC分类号
C23C1408 C23C1454
代理机构
华中科技大学专利中心
代理人
曹葆青
法律状态
实质审查的生效
国省代码
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共 50 条
[1]
脉冲激光沉积制备硅基锐钛矿相TiO2薄膜的方法 [P]. 
龙华 ;
陆培祥 ;
杨光 ;
戴能利 ;
李玉华 ;
杨振宇 .
中国专利 :CN101139702B ,2008-03-12
[2]
脉冲激光沉积MoS2薄膜的方法 [P]. 
何鹏 ;
张墅野 ;
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[3]
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[4]
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[5]
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[6]
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[7]
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[8]
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[9]
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[10]
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不公告发明人 .
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