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半导体结构及其形成方法
被引：0
申请号：
CN202011392467.7
申请日：
2020-12-02
公开(公告)号：
CN114597206A
公开(公告)日：
2022-06-07
发明(设计)人：
蔡巧明
马丽莎
申请人：
申请人地址：
100176 北京市大兴区北京经济技术开发区文昌大道18号9幢
IPC主分类号：
H01L27092
IPC分类号：
H01L218238
代理机构：
上海知锦知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 31327
代理人：
高静
法律状态：
公开
国省代码：
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法律状态
| 法律状态公告日 | 法律状态 | 法律状态信息 |
| 2022-06-07 | 公开 | 公开 |
| 2022-06-24 | 实质审查的生效 | 实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 27/092 申请日:20201202 |