一种晶硅片碱抛光装置及抛光工艺

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN202011638639.4
申请日
2020-12-31
公开(公告)号
CN112792711B
公开(公告)日
2021-05-14
发明(设计)人
张红利 罗江 李雪芬 王池 李锋清 李杨 袁震芹 虢世恩 毕超群 程力
申请人
申请人地址
430000 湖北省武汉市东西湖区新城十路
IPC主分类号
B24B2902
IPC分类号
B24B2700 B24B4106 B24B4700 B24B4712 B24B5702 H01L2102 H01L2167
代理机构
武汉红观专利代理事务所(普通合伙) 42247
代理人
李杰梅
法律状态
公开
国省代码
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共 50 条
[1]
一种硅片有蜡抛光工艺及抛光装置 [P]. 
陈跃骅 ;
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[2]
一种晶圆抛光装置及抛光工艺 [P]. 
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冯校亮 ;
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[3]
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张超仁 ;
黄春峰 ;
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[4]
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[5]
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[6]
一种光学镜片抛光装置及抛光工艺 [P]. 
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[7]
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[8]
一种光学镜片抛光装置及抛光工艺 [P]. 
周志凯 ;
陈锐 .
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[9]
一种光学镜片抛光装置及抛光工艺 [P]. 
罗俊涛 .
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[10]
一种管材内表面抛光装置及抛光工艺 [P]. 
林郁君 .
中国专利 :CN113059474B ,2021-07-02