金化学机械抛光组合物及方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200780027104.X

申请日：

2007-05-22

公开(公告)号：

CN101490202A

公开(公告)日：

2009-07-22

发明(设计)人：

弗拉斯塔·布鲁希克周仁杰克里斯托弗·汤普森

申请人：

申请人地址：

美国伊利诺伊州

IPC主分类号：

C09K314

IPC分类号：

C09G102 C09C168

代理机构：

北京市柳沈律师事务所

代理人：

宋莉

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2009-07-22	公开	公开
2009-09-16	实质审查的生效	实质审查的生效
2012-09-05	授权	授权
2017-07-14	专利权的终止	未缴年费专利权终止号牌文件类型代码:1605 号牌文件序号:101734159171 IPC(主分类):H01L 21/302 专利号:ZL200780027104X 申请日:20070522 授权公告日:20120905 终止日期:20160522

共 50 条

[1]

化学机械抛光组合物及使用其的化学机械抛光方法 [P].

北村启 ;

并木明久 ;

增田刚 ;

松村义之 .

中国专利 :CN114829521A ,2022-07-29

[2]

化学机械抛光组合物及使用其的化学机械抛光方法 [P].

北村启 ;

并木明久 ;

增田刚 ;

松村义之 .

日本专利 :CN114829521B ,2024-04-09

[3]

化学机械抛光用含水浆液组合物及化学机械抛光方法 [P].

申东穆 ;

崔银美 ;

曹昇范 ;

河贤哲 .

中国专利 :CN101679810B ,2010-03-24

[4]

化学机械抛光组合物、清洗组合物、化学机械抛光方法和清洗方法 [P].

北村启 ;

增田刚 ;

松村义之 ;

并木明久 ;

齐藤健 .

中国专利 :CN114258421A ,2022-03-29

[5]

一种化学机械抛光组合物 [P].

谭明月 ;

王嵩 ;

孙沉敏 ;

孙金涛 ;

史经深 ;

赵有钱 ;

周凯瑞 ;

王晨 .

中国专利 :CN120230473A ,2025-07-01

[6]

化学机械抛光水性组合物及钛基片化学机械抛光工艺方法 [P].

路新春 ;

戴媛静 ;

潘国顺 ;

雒建斌 .

中国专利 :CN102796458B ,2012-11-28

[7]

化学机械抛光组合物及其相关方法 [P].

B·温斯坦 ;

T·高希 .

中国专利 :CN1261511C ,2004-06-30

[8]

化学机械抛光(CMP)组合物 [P].

R·赖夏特 ;

M·西伯特 ;

兰永清 ;

M·劳特尔 ;

H·O·格文茨 ;

J·普罗尔斯 ;

S·A·奥斯曼易卜拉欣 ;

R·戈扎里安 .

中国专利 :CN106661382B ,2017-05-10

[9]

钨化学机械抛光组合物 [P].

富琳 ;

S.格拉宾 ;

J.戴萨德 ;

李常怡 .

中国专利 :CN106661430B ,2017-05-10

[10]

化学机械抛光组合物及其抛光方法 [P].

彭路希 ;

田露 ;

贾仁合 .

中国专利 :CN117511415A ,2024-02-06

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