化学机械抛光水性组合物及钛基片化学机械抛光工艺方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201210248460.7

申请日：

2012-07-17

公开(公告)号：

CN102796458B

公开(公告)日：

2012-11-28

发明(设计)人：

路新春戴媛静潘国顺雒建斌

申请人：

申请人地址：

100084 北京市海淀区100084-82信箱

IPC主分类号：

C09G102

IPC分类号：

C23F306

代理机构：

北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙) 11201

代理人：

李志东

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2013-01-23	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101383318002 IPC(主分类):C09G 1/02 专利申请号:2012102484607 申请日:20120717
2012-11-28	公开	公开
2014-04-23	授权	授权

共 50 条

[1]

化学机械抛光剂及化学机械抛光工艺 [P].

刘聪 ;

董信国 .

中国专利 :CN118978865A ,2024-11-19

[2]

化学机械抛光设备与化学机械抛光工艺 [P].

胡俊汀 ;

谢祖怡 ;

曾子育 ;

郭永杰 ;

白弘吉 .

中国专利 :CN1986157A ,2007-06-27

[3]

化学机械抛光用含水浆液组合物及化学机械抛光方法 [P].

申东穆 ;

崔银美 ;

曹昇范 ;

河贤哲 .

中国专利 :CN101679810B ,2010-03-24

[4]

化学机械抛光垫及化学机械抛光方法 [P].

志保浩司 ;

田野裕之 ;

保坂幸生 ;

西村秀树 .

中国专利 :CN1864929A ,2006-11-22

[5]

化学机械抛光设备及化学机械抛光方法 [P].

朱慧珑 ;

钟汇才 ;

梁擎擎 ;

赵超 .

中国专利 :CN102756323A ,2012-10-31

[6]

化学机械抛光设备及化学机械抛光方法 [P].

李洪阳 ;

陈映松 ;

许振杰 ;

李长坤 ;

王科 .

中国专利 :CN120134207B ,2025-08-19

[7]

化学机械抛光垫及化学机械抛光方法 [P].

刘宇宏 ;

韩桂全 ;

雒建斌 ;

郭丹 ;

路新春 .

中国专利 :CN102601727A ,2012-07-25

[8]

化学机械抛光设备及化学机械抛光方法 [P].

李洪阳 ;

陈映松 ;

许振杰 ;

李长坤 ;

王科 .

中国专利 :CN120862551A ,2025-10-31

[9]

化学机械抛光设备及化学机械抛光方法 [P].

李洪阳 ;

陈映松 ;

许振杰 ;

李长坤 ;

王科 .

中国专利 :CN120134207A ,2025-06-13

[10]

化学机械抛光装置和化学机械抛光方法 [P].

铃木三惠子 ;

土屋泰章 .

中国专利 :CN1098746C ,1999-09-01

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