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半导体器件及其形成方法
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN201810049867.4
申请日
:
2018-01-18
公开(公告)号
:
CN110060919B
公开(公告)日
:
2019-07-26
发明(设计)人
:
严强生
詹扬
张启阳
申请人
:
申请人地址
:
201203 上海市浦东新区张江路18号
IPC主分类号
:
H01L2102
IPC分类号
:
H01L2128
H01L21311
H01L21336
代理机构
:
北京集佳知识产权代理有限公司 11227
代理人
:
徐文欣;吴敏
法律状态
:
实质审查的生效
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2019-08-20
实质审查的生效
实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 21/02 申请日:20180118
2019-07-26
公开
公开
2021-08-06
授权
授权
共 50 条
[1]
半导体器件及其形成方法
[P].
张田田
论文数:
0
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0
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张田田
;
谭晶晶
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0
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谭晶晶
.
中国专利
:CN112420595A
,2021-02-26
[2]
半导体器件及其形成方法
[P].
周飞
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0
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周飞
.
中国专利
:CN110797262A
,2020-02-14
[3]
半导体器件及其形成方法
[P].
张城龙
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张城龙
;
何其暘
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0
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0
何其暘
;
张海洋
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0
引用数:
0
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张海洋
.
中国专利
:CN106558608B
,2017-04-05
[4]
半导体器件及其形成方法
[P].
王楠
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0
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0
王楠
.
中国专利
:CN110875237A
,2020-03-10
[5]
半导体器件及其形成方法
[P].
窦涛
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窦涛
;
汤霞梅
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汤霞梅
;
胡友存
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0
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胡友存
.
中国专利
:CN111640657A
,2020-09-08
[6]
半导体器件及其形成方法
[P].
唐粕人
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唐粕人
.
中国专利
:CN110581101B
,2019-12-17
[7]
半导体器件及其形成方法
[P].
刘焕新
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刘焕新
;
张北超
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张北超
;
吴端毅
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吴端毅
.
中国专利
:CN109994368B
,2019-07-09
[8]
半导体器件及其形成方法
[P].
吴轶超
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机构:
中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
吴轶超
.
中国专利
:CN118280917A
,2024-07-02
[9]
半导体器件及其形成方法
[P].
纪世良
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纪世良
;
张城龙
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张城龙
.
中国专利
:CN110060931B
,2019-07-26
[10]
半导体器件及其形成方法
[P].
周飞
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周飞
.
中国专利
:CN108807377A
,2018-11-13
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