沉积无光泽铜镀层的铜浴及方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN01817680.1

申请日：

2001-10-10

公开(公告)号：

CN1636083A

公开(公告)日：

2005-07-06

发明(设计)人：

贡萨洛·乌鲁蒂亚－德迈松斯特凡·克雷奇默尔格尔德·森格托尔斯滕·罗斯托尔斯滕·屈斯纳

申请人：

申请人地址：

德国柏林

IPC主分类号：

C25D300

IPC分类号：

代理机构：

永新专利商标代理有限公司

代理人：

过晓东

法律状态：

专利权的终止

国省代码：

引用

下载

收藏

法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2019-10-08	专利权的终止	未缴年费专利权终止 IPC(主分类):C25D 3/00 申请日:20011010 授权公告日:20070509 终止日期:20181010
2007-05-09	授权	授权
2005-07-06	公开	公开
2005-08-31	实质审查的生效	实质审查的生效

共 50 条

[1]

制造无光泽铜沉积的方法 [P].

斯特凡·克雷奇默 ;

飞利浦·哈特曼 ;

贝恩德·罗夫斯 .

中国专利 :CN104080955B ,2014-10-01

[2]

用于铜的电解沉积的水性酸浴 [P].

N·丹布罗斯基 ;

U·豪夫 ;

I·埃韦特 ;

C·丹布劳斯基 ;

R·文策尔 .

中国专利 :CN103547711B ,2014-01-29

[3]

电解质和用于无光泽金属膜沉积的方法 [P].

安德里亚·科宁绍夫 ;

丹尼卡·艾尔比克 ;

克里斯托夫·沃纳 ;

沃尔夫冈·克鲁伯格 ;

彼得·派斯 ;

安德里亚·莫比乌斯 .

中国专利 :CN101400830A ,2009-04-01

[4]

用于电解沉积铜涂层的水性酸性铜电镀浴及方法 [P].

P.瓦赫特 ;

S.克雷奇默 .

中国专利 :CN110741109B ,2020-01-31

[5]

含水铜镀浴和用于将铜或铜合金沉积到基底上的方法 [P].

海科·布鲁纳 ;

拉尔斯·科尔曼 ;

阿格尼斯兹卡·维特恰克 ;

奥利维尔·曼 .

中国专利 :CN107923060B ,2018-04-17

[6]

用于电解沉积铜的水性酸浴及方法 [P].

H·布伦纳 ;

B·罗尔福斯 ;

D·罗德 ;

T·普利特 .

中国专利 :CN101960054B ,2011-01-26

[7]

铜表面处理用置换镍镀浴、使用该镀浴的铜部件的制造方法以及该铜部件 [P].

田中薰 ;

山上芳一 .

中国专利 :CN106191824A ,2016-12-07

[8]

电沉积光亮铜的方法 [P].

李志刚 ;

葛文 .

中国专利 :CN111593376A ,2020-08-28

[9]

带铜镀层的轧制铜箔 [P].

室贺岳海 ;

后藤千鹤 .

中国专利 :CN104109888A ,2014-10-22

[10]

铜底基的选择性沉积方法 [P].

K·F·文根罗斯 .

中国专利 :CN1240873C ,2003-01-15

← 1 2 3 4 5 →