光学薄膜抗重复频率激光损伤特性的评价方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200910048695.X

申请日：

2009-04-01

公开(公告)号：

CN101526461A

公开(公告)日：

2009-09-09

发明(设计)人：

张东贺洪波赵元安夏燏

申请人：

申请人地址：

201800上海市800-211邮政信箱

IPC主分类号：

G01N1700

IPC分类号：

G01N2188 G01N2149

代理机构：

上海新天专利代理有限公司

代理人：

张泽纯

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2012-04-18	授权	授权
2009-11-04	实质审查的生效	实质审查的生效
2009-09-09	公开	公开

共 50 条

[1]

提高光学薄膜激光损伤阈值的镀膜方法 [P].

张东平 ;

范正修 ;

邵建达 ;

张大伟 ;

范树海 ;

齐红基 ;

赵元安 .

中国专利 :CN1298886C ,2005-05-11

[2]

一种光学薄膜激光损伤阈值测试系统及其方法 [P].

赵元安 ;

马浩 ;

邵建达 ;

李大伟 ;

刘晓凤 ;

邵宇宸 ;

李成 ;

李婷 .

中国专利 :CN110542684A ,2019-12-06

[3]

一种提高光学薄膜元件抗激光损伤能力的方法 [P].

刘文文 ;

蒲唐阳 ;

梁龙 ;

曹宇 ;

张健 ;

朱德华 .

中国专利 :CN111443406B ,2020-07-24

[4]

双波长激光同时辐照光学薄膜损伤阈值测量装置和方法 [P].

周明 ;

李大伟 ;

赵元安 ;

邵建达 ;

范正修 .

中国专利 :CN101806657B ,2010-08-18

[5]

产生低重复频率超短激光脉冲的方法 [P].

闫明 ;

李文雪 ;

郝强 ;

黎遥 ;

曾和平 .

中国专利 :CN101478111A ,2009-07-08

[6]

光学薄膜的制造方法和光学薄膜 [P].

西本圭司 ;

井上知晶 .

日本专利 :CN116583619B ,2025-11-25

[7]

光学薄膜的制造方法及光学薄膜 [P].

山田朋文 ;

下田一弘 .

中国专利 :CN101520576B ,2009-09-02

[8]

光学薄膜的制造方法及光学薄膜 [P].

下田一弘 ;

山本刚司 .

中国专利 :CN101324679B ,2008-12-17

[9]

光学薄膜的制备方法及光学薄膜 [P].

张乐 ;

康健 ;

张保平 ;

杨光 ;

纪诺 ;

姚思彤 ;

胡思旭 ;

李立伟 ;

陈浩 .

中国专利 :CN120923828A ,2025-11-11

[10]

光学薄膜的制备方法及光学薄膜 [P].

孙小卫 ;

王恺 ;

周淼 ;

杨鸿成 ;

刘湃 ;

徐冰 ;

陈黎暄 ;

李冬泽 .

中国专利 :CN111995997A ,2020-11-27

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