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一种铜蚀刻液及其应用
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN201710192748.X
申请日
:
2017-03-28
公开(公告)号
:
CN107012465A
公开(公告)日
:
2017-08-04
发明(设计)人
:
王毅明
朱霞
申请人
:
申请人地址
:
210012 江苏省镇江市新坝镇扬中大桥东侧
IPC主分类号
:
C23F134
IPC分类号
:
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
公开
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2017-08-04
公开
公开
2017-08-29
实质审查的生效
实质审查的生效 号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101744595696 IPC(主分类):C23F 1/34 专利申请号:201710192748X 申请日:20170328
2019-09-03
授权
授权
共 50 条
[1]
铜蚀刻液、铜蚀刻液的制备方法及其应用
[P].
郭世豪
论文数:
0
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0
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机构:
深圳市信维通信股份有限公司
深圳市信维通信股份有限公司
郭世豪
;
王钦
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机构:
深圳市信维通信股份有限公司
深圳市信维通信股份有限公司
王钦
;
张丁山
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机构:
深圳市信维通信股份有限公司
深圳市信维通信股份有限公司
张丁山
;
虞成城
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机构:
深圳市信维通信股份有限公司
深圳市信维通信股份有限公司
虞成城
.
中国专利
:CN118600426A
,2024-09-06
[2]
一种铜蚀刻液及其应用
[P].
朱少臣
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机构:
华为技术有限公司
华为技术有限公司
朱少臣
;
李晓悦
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机构:
华为技术有限公司
华为技术有限公司
李晓悦
.
中国专利
:CN121065700A
,2025-12-05
[3]
一种酸性铜蚀刻液及其应用
[P].
罗光洲
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机构:
珠海市裕洲环保科技有限公司
珠海市裕洲环保科技有限公司
罗光洲
.
中国专利
:CN116497355B
,2024-03-22
[4]
铜蚀刻液及其制备方法和应用、铜蚀刻方法
[P].
董艳
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董艳
;
王逸群
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王逸群
;
王洋洋
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王洋洋
;
冯海通
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冯海通
.
中国专利
:CN105624679A
,2016-06-01
[5]
铜蚀刻液
[P].
米田拓也
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米田拓也
;
石田哲司
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石田哲司
;
山本久光
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山本久光
;
嘉藤一成
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嘉藤一成
;
清水良祐
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清水良祐
.
中国专利
:CN115433939A
,2022-12-06
[6]
一种铜蚀刻液组合物及其应用
[P].
李恩庆
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机构:
四川和晟达电子科技有限公司
四川和晟达电子科技有限公司
李恩庆
;
谢一泽
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机构:
四川和晟达电子科技有限公司
四川和晟达电子科技有限公司
谢一泽
;
赵东
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机构:
四川和晟达电子科技有限公司
四川和晟达电子科技有限公司
赵东
;
李闯
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机构:
四川和晟达电子科技有限公司
四川和晟达电子科技有限公司
李闯
;
张红伟
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机构:
四川和晟达电子科技有限公司
四川和晟达电子科技有限公司
张红伟
;
黄海东
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机构:
四川和晟达电子科技有限公司
四川和晟达电子科技有限公司
黄海东
;
胡天齐
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机构:
四川和晟达电子科技有限公司
四川和晟达电子科技有限公司
胡天齐
.
中国专利
:CN118895506A
,2024-11-05
[7]
铜钼金属蚀刻液及其应用
[P].
郭前程
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郭前程
.
中国专利
:CN113667979A
,2021-11-19
[8]
铜蚀刻液及其配置方法、蚀刻方法及应用
[P].
张丁山
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机构:
深圳市信维通信股份有限公司
深圳市信维通信股份有限公司
张丁山
;
王钦
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机构:
深圳市信维通信股份有限公司
深圳市信维通信股份有限公司
王钦
;
虞成城
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机构:
深圳市信维通信股份有限公司
深圳市信维通信股份有限公司
虞成城
.
中国专利
:CN117448822A
,2024-01-26
[9]
一种铜蚀刻液及其制备方法和应用
[P].
章晓冬
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章晓冬
;
刘江波
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刘江波
;
童茂军
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童茂军
.
中国专利
:CN110904456A
,2020-03-24
[10]
一种铜蚀刻液及其制备方法与应用
[P].
袁明军
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机构:
苏州惺忆新材料科技有限公司
苏州惺忆新材料科技有限公司
袁明军
;
毕春雷
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机构:
苏州惺忆新材料科技有限公司
苏州惺忆新材料科技有限公司
毕春雷
.
中国专利
:CN118064895A
,2024-05-24
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