用于对准掩模段的对准装置和方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN02154095.0

申请日：

2002-12-10

公开(公告)号：

CN1279629C

公开(公告)日：

2003-06-18

发明(设计)人：

T·K·克拉克

申请人：

申请人地址：

美国纽约州

IPC主分类号：

H01L3300

IPC分类号：

H01L5140

代理机构：

中国专利代理(香港)有限公司

代理人：

肖春京;郑建晖

法律状态：

专利权的终止

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2022-12-27	专利权的终止	专利权有效期届满 IPC(主分类):H01L 33/00 申请日:20021210 授权公告日:20061011
2006-10-11	授权	授权
2004-10-27	实质审查的生效	实质审查的生效
2010-06-30	专利申请权、专利权的转移	专利权的转移号牌文件类型代码:1602 号牌文件序号:101002851860 IPC(主分类):H01L 33/00 专利号:ZL021540950 变更事项:专利权人变更前权利人:伊斯曼柯达公司变更后权利人:全球OLED科技有限责任公司变更事项:地址变更前权利人:美国纽约州变更后权利人:美国特拉华州登记生效日:20100525
2003-06-18	公开	公开

共 50 条

[1]

用于对准装置的对准元件和对准方法 [P].

M·贝克 .

中国专利 :CN104870128B ,2015-08-26

[2]

对准装置和对准方法 [P].

黃松怡 ;

林惠知 .

韩国专利 :CN118398539A ,2024-07-26

[3]

对准装置和对准方法 [P].

卡尔·H·皮拉瓦瑟 ;

播冈好之 ;

池端谦 ;

柿沼良典 ;

石松阳介 ;

泽山良太 .

中国专利 :CN112020769A ,2020-12-01

[4]

对准装置和对准方法 [P].

卡尔·H·皮拉瓦瑟 ;

播冈好之 ;

池端谦 ;

柿沼良典 ;

石松阳介 ;

泽山良太 .

德国专利 :CN112020769B ,2025-04-29

[5]

对准装置和对准方法 [P].

木村孔 ;

中尾裕利 ;

柴智志 ;

坂内雄也 .

中国专利 :CN104904002A ,2015-09-09

[6]

掩模版和硅片对准装置 [P].

宋宇 ;

孙海旋 ;

曾维俊 ;

卢瑶 ;

钱俊 ;

闫雪松 ;

于福鑫 ;

吕丹辉 .

中国专利 :CN214477373U ,2021-10-22

[7]

玻璃掩模和掩模保持器的位置对准装置 [P].

目黑崇 .

中国专利 :CN101533225A ,2009-09-16

[8]

光刻对准标记、制备方法、对准装置和对准方法 [P].

金浩 ;

席朝晖 ;

彭彬 .

中国专利 :CN121142927A ,2025-12-16

[9]

对准装置、对准方法、成膜方法、掩模以及成膜装置 [P].

市原正浩 ;

长冈健 .

日本专利 :CN118854224A ,2024-10-29

[10]

用于对准光束传播方向的对准装置、系统和方法 [P].

克里斯托夫·卡斯特拉 ;

格奥尔格·利希滕伯格 ;

布鲁诺·奥施 ;

勒内·保罗·萨拉特赫 ;

曼弗雷德·沙沃勒 .

:CN121219619A ,2025-12-26

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