铜合金溅射靶

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201410431593.7

申请日：

2014-08-28

公开(公告)号：

CN104419904A

公开(公告)日：

2015-03-18

发明(设计)人：

森晓坂本敏夫大久保清之

申请人：

申请人地址：

日本东京

IPC主分类号：

C23C1434

IPC分类号：

C22C900

代理机构：

北京德琦知识产权代理有限公司 11018

代理人：

康泉;王珍仙

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2016-04-13	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101654903138 IPC(主分类):C23C 14/34 专利申请号:2014104315937 申请日:20140828
2015-03-18	公开	公开
2019-03-22	授权	授权

共 50 条

[1]

铜合金溅射靶 [P].

大月富男 ;

长田健一 .

中国专利 :CN104781447A ,2015-07-15

[2]

铜合金溅射靶及铜合金溅射靶的制造方法 [P].

森晓 ;

坂本敏夫 ;

大久保清之 .

中国专利 :CN104342574B ,2015-02-11

[3]

铜合金溅射靶及其制造方法 [P].

守井泰士 ;

大月富男 .

中国专利 :CN107109633B ,2017-08-29

[4]

溅射靶用铜合金制热轧板及溅射靶 [P].

大久保清之 ;

小出正登 .

中国专利 :CN104812920A ,2015-07-29

[5]

铜合金溅射膜及制造方法、铜合金溅射靶及制造方法 [P].

山岸浩一 ;

渡边宏幸 .

日本专利 :CN117987777A ,2024-05-07

[6]

铜合金薄膜、铜合金溅射靶和平板显示器 [P].

钉宫敏洋 ;

富久胜文 ;

高木胜寿 ;

中井淳一 .

中国专利 :CN100392505C ,2006-05-10

[7]

铜或铜合金溅射靶材包装件 [P].

姚力军 ;

潘杰 ;

王学泽 ;

郑文翔 ;

刘庆 .

中国专利 :CN201660228U ,2010-12-01

[8]

铜或铜合金溅射靶材的清洗方法 [P].

姚力军 ;

潘杰 ;

王学泽 ;

郑文翔 ;

刘庆 .

中国专利 :CN101724818A ,2010-06-09

[9]

微粒发生少的含Mn铜合金溅射靶 [P].

青木庄治 ;

和田正彦 ;

小出正登 .

中国专利 :CN100567559C ,2008-08-13

[10]

高纯度铜或高纯度铜合金溅射靶、该溅射靶的制造方法及高纯度铜或高纯度铜合金溅射膜 [P].

福岛笃志 ;

新藤裕一朗 ;

岛本晋 .

中国专利 :CN102165093A ,2011-08-24

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