聚合物、有机膜组合物及图案形成方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201880071469.0

申请日：

2018-06-28

公开(公告)号：

CN111295409A

公开(公告)日：

2020-06-16

发明(设计)人：

林栽范

申请人：

申请人地址：

韩国京畿道

IPC主分类号：

C08G6112

IPC分类号：

C08G6110 H01L21027 H01L21033 H01L2102 G03F709

代理机构：

北京康信知识产权代理有限责任公司 11240

代理人：

车美灵

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2020-07-10	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):C08G 61/12 申请日:20180628
2020-06-16	公开	公开

共 50 条

[1]

聚合物、有机膜组成物及图案形成方法 [P].

郑铉日 ;

金瑆焕 ;

金昇炫 ;

朴裕信 ;

朴惟廷 ;

辛乘旭 ;

林栽范 .

中国专利 :CN111542558A ,2020-08-14

[2]

单体、聚合物、有机膜组合物以及图案形成方法 [P].

林栽范 .

中国专利 :CN111315724A ,2020-06-19

[3]

有机膜形成用组合物、图案形成方法、以及聚合物 [P].

郡大佑 ;

石绵健汰 ;

山本靖之 ;

矢野俊治 .

中国专利 :CN112213919A ,2021-01-12

[4]

有机膜形成用组合物、图案形成方法、以及聚合物 [P].

郡大佑 ;

石绵健汰 ;

山本靖之 ;

矢野俊治 .

日本专利 :CN112213919B ,2024-09-27

[5]

有机膜形成用组成物、有机膜形成方法、图案形成方法、及聚合物 [P].

新井田惠介 ;

山本靖之 .

日本专利 :CN120829583A ,2025-10-24

[6]

有机膜形成用组成物、有机膜形成方法、图案形成方法及聚合物 [P].

郡大佑 ;

山本靖之 .

日本专利 :CN121115406A ,2025-12-12

[7]

有机膜形成用组成物、有机膜形成方法、图案形成方法、及聚合物 [P].

郡大佑 ;

山本靖之 .

日本专利 :CN119861530A ,2025-04-22

[8]

有机膜形成用组成物、有机膜形成方法、图案形成方法、单体及聚合物 [P].

郡大佑 ;

山本靖之 ;

畠山润 .

日本专利 :CN120699515A ,2025-09-26

[9]

膜形成用组成物、有机膜形成方法、图案形成方法、单体、及聚合物 [P].

郡大佑 ;

山本靖之 ;

畠山润 .

日本专利 :CN120722662A ,2025-09-30

[10]

有机膜形成用组合物、半导体装置制造用基板、有机膜的形成方法、图案形成方法及聚合物 [P].

郡大佑 ;

荻原勤 ;

渡边武 ;

新井田惠介 ;

泽村昂志 .

中国专利 :CN109426076B ,2019-03-05

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