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半导体元件用外延基板、半导体元件及半导体元件用外延基板的制作方法
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN201010251741.9
申请日
:
2010-08-09
公开(公告)号
:
CN102005470A
公开(公告)日
:
2011-04-06
发明(设计)人
:
三好実人
仓冈义孝
角谷茂明
市村干也
杉山智彦
田中光浩
申请人
:
申请人地址
:
日本爱知县名古屋市
IPC主分类号
:
H01L2906
IPC分类号
:
H01L29778
H01L21335
代理机构
:
北京北翔知识产权代理有限公司 11285
代理人
:
钟守期;刘文君
法律状态
:
授权
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2014-07-23
授权
授权
2011-04-06
公开
公开
2012-06-13
实质审查的生效
实质审查的生效 号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101264916523 IPC(主分类):H01L 29/06 专利申请号:2010102517419 申请日:20100809
共 50 条
[1]
半导体元件用外延基板、半导体元件及半导体元件用外延基板的制作方法
[P].
三好实人
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三好实人
;
仓冈义孝
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仓冈义孝
;
角谷茂明
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角谷茂明
;
田中光浩
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田中光浩
.
中国专利
:CN101981677B
,2011-02-23
[2]
半导体元件用外延基板、半导体元件及半导体元件用外延基板的制作方法
[P].
三好実人
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三好実人
;
仓冈义孝
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仓冈义孝
;
角谷茂明
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角谷茂明
;
市村干也
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市村干也
;
杉山智彦
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杉山智彦
;
田中光浩
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田中光浩
.
中国专利
:CN102005471A
,2011-04-06
[3]
半导体元件用外延基板、半导体元件、半导体元件用外延基板的制作方法、以及半导体元件的制作方法
[P].
三好实人
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三好实人
;
市村干也
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市村干也
;
田中光浩
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田中光浩
.
中国专利
:CN103081080B
,2013-05-01
[4]
半导体元件用外延基板、半导体元件用外延基板的制造方法、以及半导体元件
[P].
三好实人
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三好实人
;
市村干也
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市村干也
;
前原宗太
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前原宗太
;
田中光浩
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田中光浩
.
中国专利
:CN103109351A
,2013-05-15
[5]
半导体元件用外延基板、半导体元件用外延基板的制造方法以及半导体元件
[P].
角谷茂明
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角谷茂明
;
三好実人
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三好実人
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杉山智彦
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杉山智彦
;
市村干也
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市村干也
;
仓冈义孝
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仓冈义孝
;
田中光浩
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田中光浩
.
中国专利
:CN102484049A
,2012-05-30
[6]
半导体元件、半导体元件用外延基板及其制作方法
[P].
三好实人
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三好实人
;
仓冈义孝
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仓冈义孝
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角谷茂明
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角谷茂明
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田中光浩
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田中光浩
.
中国专利
:CN101981658B
,2011-02-23
[7]
半导体元件用外延基板、半导体元件和半导体元件用外延基板的制造方法
[P].
市村干也
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市村干也
;
前原宗太
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前原宗太
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仓冈义孝
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仓冈义孝
.
中国专利
:CN108352327A
,2018-07-31
[8]
半导体元件用外延基板和半导体元件
[P].
市村干也
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市村干也
;
前原宗太
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前原宗太
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仓冈义孝
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仓冈义孝
.
中国专利
:CN113506777A
,2021-10-15
[9]
半导体元件用外延基板和半导体元件
[P].
市村干也
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机构:
日本碍子株式会社
日本碍子株式会社
市村干也
;
前原宗太
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机构:
日本碍子株式会社
日本碍子株式会社
前原宗太
;
仓冈义孝
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机构:
日本碍子株式会社
日本碍子株式会社
仓冈义孝
.
日本专利
:CN113506777B
,2024-12-13
[10]
半导体元件用外延基板、半导体元件和半导体元件用外延基板的制造方法
[P].
市村干也
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市村干也
;
前原宗太
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前原宗太
;
仓冈义孝
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仓冈义孝
.
中国专利
:CN108140561B
,2018-06-08
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