锰合金溅射靶及其制造方法

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专利类型
发明
申请号
CN02808289.3
申请日
2002-02-18
公开(公告)号
CN1311096C
公开(公告)日
2004-06-09
发明(设计)人
中村祐一郎
申请人
申请人地址
日本东京
IPC主分类号
C23C1434
IPC分类号
C22C102 B21J502 B21J508 G11B5851 G11B565
代理机构
中原信达知识产权代理有限责任公司
代理人
樊卫民;杨青
法律状态
公开
国省代码
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共 50 条
[1]
In或In合金溅射靶及其制造方法 [P]. 
陆田雄也 ;
梅本启太 ;
张守斌 .
中国专利 :CN105593398B ,2016-05-18
[2]
铜合金溅射靶及其制造方法 [P]. 
守井泰士 ;
大月富男 .
中国专利 :CN107109633B ,2017-08-29
[3]
银合金溅射靶及其制造方法 [P]. 
松崎均 ;
高木胜寿 ;
中井淳一 ;
中根靖夫 .
中国专利 :CN1238554C ,2004-11-10
[4]
高纯度铜锰合金溅射靶 [P]. 
长田健一 ;
大月富男 ;
冈部岳夫 ;
牧野修仁 ;
福岛笃志 .
中国专利 :CN104066868B ,2014-09-24
[5]
高纯度铜锰合金溅射靶 [P]. 
长田健一 ;
大月富男 ;
冈部岳夫 ;
牧野修仁 ;
福岛笃志 .
中国专利 :CN103547701A ,2014-01-29
[6]
高纯度铜锰合金溅射靶 [P]. 
长田健一 ;
大月富男 ;
冈部岳夫 ;
牧野修仁 ;
福岛笃志 .
中国专利 :CN103797152A ,2014-05-14
[7]
溅射靶、溅射靶材及其制造方法 [P]. 
小岛丰 ;
松前和男 ;
葛城成吾 .
中国专利 :CN101360844A ,2009-02-04
[8]
铜锰溅射靶 [P]. 
斯蒂芬·费拉泽 ;
弗兰克·C·奥尔福德 ;
苏珊·D·斯特罗瑟 ;
艾拉·G·诺兰德 ;
迈克尔·R·品特 ;
帕特里克·安德伍德 .
中国专利 :CN111344434A ,2020-06-26
[9]
铜合金溅射靶及铜合金溅射靶的制造方法 [P]. 
森晓 ;
坂本敏夫 ;
大久保清之 .
中国专利 :CN104342574B ,2015-02-11
[10]
溅射靶材、溅射靶、溅射靶用铝板及其制造方法 [P]. 
竹田博贵 ;
藤田昌宏 .
中国专利 :CN110709532B ,2020-01-17