高纯度铜锰合金溅射靶

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201280044705.2

申请日：

2012-09-05

公开(公告)号：

CN103797152A

公开(公告)日：

2014-05-14

发明(设计)人：

长田健一大月富男冈部岳夫牧野修仁福岛笃志

申请人：

申请人地址：

日本东京

IPC主分类号：

C23C1434

IPC分类号：

C22C905 H01L21285 H01L2128

代理机构：

中原信达知识产权代理有限责任公司 11219

代理人：

王海川;穆德骏

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2014-05-14	公开	公开
2014-06-11	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101582908593 IPC(主分类):C23C 14/34 专利申请号:2012800447052 申请日:20120905
2017-05-10	发明专利申请公布后的视为撤回	发明专利申请公布后的视为撤回号牌文件类型代码:1602 号牌文件序号:101751169115 IPC(主分类):C23C 14/34 专利申请号:2012800447052 申请公布日:20140514

共 50 条

[1]

高纯度铜锰合金溅射靶 [P].

长田健一 ;

大月富男 ;

冈部岳夫 ;

牧野修仁 ;

福岛笃志 .

中国专利 :CN104066868B ,2014-09-24

[2]

高纯度铜锰合金溅射靶 [P].

长田健一 ;

大月富男 ;

冈部岳夫 ;

牧野修仁 ;

福岛笃志 .

中国专利 :CN103547701A ,2014-01-29

[3]

高纯度铜铬合金溅射靶 [P].

大月富男 ;

福岛笃志 .

中国专利 :CN104066869A ,2014-09-24

[4]

高纯度铜或高纯度铜合金溅射靶、该溅射靶的制造方法及高纯度铜或高纯度铜合金溅射膜 [P].

福岛笃志 ;

新藤裕一朗 ;

岛本晋 .

中国专利 :CN102165093A ,2011-08-24

[5]

铜锰溅射靶 [P].

斯蒂芬·费拉泽 ;

弗兰克·C·奥尔福德 ;

苏珊·D·斯特罗瑟 ;

艾拉·G·诺兰德 ;

迈克尔·R·品特 ;

帕特里克·安德伍德 .

中国专利 :CN111344434A ,2020-06-26

[6]

高纯度铜溅射靶 [P].

冈部岳夫 ;

大月富男 ;

渡边茂 .

中国专利 :CN104053814A ,2014-09-17

[7]

高纯度铜溅射靶用铜原材料及高纯度铜溅射靶 [P].

樱井晶 ;

谷雨 ;

佐藤雄次 ;

熊谷训 .

中国专利 :CN105339527A ,2016-02-17

[8]

高纯度铜溅射靶材 [P].

森晓 ;

谷雨 ;

佐藤雄次 ;

菊池文武 ;

荒井公 .

中国专利 :CN107923034A ,2018-04-17

[9]

锰合金溅射靶及其制造方法 [P].

中村祐一郎 .

中国专利 :CN1311096C ,2004-06-09

[10]

铜基合金溅射靶 [P].

池田真 .

中国专利 :CN106103792A ,2016-11-09

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