铜基合金溅射靶

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN201580002257.3
申请日
2015-09-11
公开(公告)号
CN106103792A
公开(公告)日
2016-11-09
发明(设计)人
池田真
申请人
申请人地址
日本东京
IPC主分类号
C23C1434
IPC分类号
C23C1418 C22C902 C22C901
代理机构
永新专利商标代理有限公司 72002
代理人
刘凤岭;陈建全
法律状态
发明专利申请公布后的视为撤回
国省代码
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共 50 条
[1]
Al基合金溅射靶 [P]. 
大元诚一郎 ;
高木敏晃 .
中国专利 :CN102477539A ,2012-05-30
[2]
Al基合金溅射靶及Cu基合金溅射靶 [P]. 
松本克史 ;
中井淳一 ;
高木敏晃 .
中国专利 :CN103348036A ,2013-10-09
[3]
Al基合金溅射靶 [P]. 
岩崎祐纪 ;
松本克史 ;
高木敏晃 ;
长尾护 ;
莳野秀忠 .
中国专利 :CN102770576A ,2012-11-07
[4]
Al基合金溅射靶 [P]. 
松本克史 ;
岩崎祐纪 ;
高木敏晃 ;
长尾护 ;
莳野秀忠 ;
小林宣裕 ;
奥野博行 ;
钉宫敏洋 ;
后藤裕史 .
中国专利 :CN102041479B ,2011-05-04
[5]
Al基合金溅射靶 [P]. 
高木敏晃 ;
松本克史 ;
岩崎祐纪 ;
长尾护 ;
莳野秀忠 .
中国专利 :CN102102183B ,2011-06-22
[6]
AI基合金溅射靶 [P]. 
高木敏晃 ;
松本克史 ;
岩崎祐纪 ;
莳野秀忠 .
中国专利 :CN102051504A ,2011-05-11
[7]
Ag-基合金溅射靶 [P]. 
田内裕基 ;
松崎均 ;
大川直树 .
中国专利 :CN101376963A ,2009-03-04
[8]
溅射靶用镍基镍铜铬锰系电阻合金 [P]. 
党绪邦 ;
陈溪有 ;
傅子文 ;
张伯超 .
中国专利 :CN1103434A ,1995-06-07
[9]
高纯度铜铬合金溅射靶 [P]. 
大月富男 ;
福岛笃志 .
中国专利 :CN104066869A ,2014-09-24
[10]
高纯度铜锰合金溅射靶 [P]. 
长田健一 ;
大月富男 ;
冈部岳夫 ;
牧野修仁 ;
福岛笃志 .
中国专利 :CN104066868B ,2014-09-24