抗蚀剂用显影剂组合物和形成抗蚀图案的方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200480015871.5

申请日：

2004-06-10

公开(公告)号：

CN1802609A

公开(公告)日：

2006-07-12

发明(设计)人：

鹫尾泰史斋藤宏二

申请人：

申请人地址：

日本神奈川县

IPC主分类号：

G03F732

IPC分类号：

代理机构：

中科专利商标代理有限责任公司

代理人：

程金山

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2011-11-02	授权	授权
2011-03-02	发明专利更正	发明专利公报更正号牌文件类型代码:1608 号牌文件序号:101070881332 卷:26 号:32 页码:无申请号:2004800158715 IPC(主分类):G03F0007320000 修正类型代码:无更正项目:专利申请公布后的驳回误:驳回正:撤销驳回
2006-09-06	实质审查的生效	实质审查的生效
2010-08-11	发明专利申请公布后的驳回	发明专利申请公布后的驳回号牌文件类型代码:1602 号牌文件序号:101003963147 IPC(主分类):G03F 7/32 专利申请号:2004800158715 公开日:20060712
2006-07-12	公开	公开

共 50 条

[1]

用于抗蚀剂的显影剂组合物以及用于形成抗蚀剂图案的方法 [P].

鹫尾泰史 ;

斋藤宏二 .

中国专利 :CN1809791B ,2006-07-26

[2]

光致抗蚀剂显影剂组合物 [P].

朴赞硕 ;

金吉来 ;

朴春镐 ;

金敬娥 .

中国专利 :CN1251030C ,2004-06-09

[3]

抗蚀剂组合物、抗蚀剂图案形成方法 [P].

熊田信次 ;

前盛谕 ;

新井雅俊 ;

盐野大寿 .

中国专利 :CN102621807A ,2012-08-01

[4]

抗蚀剂组合物以及抗蚀剂图案形成方法 [P].

染谷康夫 ;

海保贵昭 ;

阿出川穂 .

中国专利 :CN114746807A ,2022-07-12

[5]

抗蚀剂组合物及抗蚀剂图案形成方法 [P].

宫崎诚太 ;

平山文武 ;

河野绅一 ;

中川裕介 .

日本专利 :CN118613766A ,2024-09-06

[6]

抗蚀剂组合物以及抗蚀剂图案形成方法 [P].

染谷康夫 ;

海保贵昭 ;

阿出川穂 .

日本专利 :CN114746807B ,2025-07-08

[7]

用于光敏抗蚀剂层的显影剂 [P].

Ｋ·Ｖ·沃尔登 ;

Ｍ·艾特根 .

中国专利 :CN1109273C ,1996-02-28

[8]

抗蚀剂组合物和形成抗蚀剂图案的方法 [P].

解德升 ;

夏元玲 ;

刘敏 .

中国专利 :CN118795729A ,2024-10-18

[9]

树脂、抗蚀剂组合物和抗蚀图案的制造方法 [P].

杉原昌子 ;

西村崇 .

中国专利 :CN114995059A ,2022-09-02

[10]

树脂、抗蚀剂组合物和抗蚀图案的制造方法 [P].

杉原昌子 ;

西村崇 .

中国专利 :CN106019832B ,2016-10-12

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