半导体结构的形成方法及半导体结构

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN202110984437.3
申请日
2021-08-25
公开(公告)号
CN113707602A
公开(公告)日
2021-11-26
发明(设计)人
李婷 周厚宏
申请人
申请人地址
230000 安徽省合肥市经济技术开发区空港工业园兴业大道388号
IPC主分类号
H01L21768
IPC分类号
H01L23528 H01L218242 H01L27108
代理机构
北京名华博信知识产权代理有限公司 11453
代理人
鲁盛楠
法律状态
公开
国省代码
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共 50 条
[1]
半导体结构的形成方法及半导体结构 [P]. 
廖楚贤 ;
朱煜寒 ;
应战 .
中国专利 :CN113937059A ,2022-01-14
[2]
半导体结构的形成方法及半导体结构 [P]. 
周步康 .
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[3]
半导体结构的形成方法及半导体结构 [P]. 
刘志拯 .
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[4]
半导体结构的形成方法及半导体结构 [P]. 
曹新满 ;
吴耆贤 ;
黄炜 .
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[5]
半导体结构的形成方法及半导体结构 [P]. 
周步康 .
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[6]
半导体结构及半导体结构的形成方法 [P]. 
刘晓阳 .
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[7]
半导体结构的形成方法及半导体结构 [P]. 
刘志拯 .
中国专利 :CN114446869B ,2024-06-07
[8]
半导体结构及半导体结构的形成方法 [P]. 
甘露 ;
郑春生 ;
师兰芳 ;
张文广 ;
张华 .
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[9]
半导体结构及半导体结构的形成方法 [P]. 
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[10]
半导体结构及半导体结构的形成方法 [P]. 
神兆旭 ;
李阳 ;
郭俊伟 ;
尹悦 .
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