研磨颗粒清洗装置

被引：0

专利类型：

实用新型

申请号：

CN201620717232.3

申请日：

2016-07-08

公开(公告)号：

CN205816317U

公开(公告)日：

2016-12-21

发明(设计)人：

梁振杰杨永红王志强王战伟

申请人：

申请人地址：

452376 河南省郑州市新密市刘寨镇西马庄

IPC主分类号：

B08B310

IPC分类号：

代理机构：

郑州中原专利事务所有限公司 41109

代理人：

张春;胡世辉

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2016-12-21	授权	授权

共 50 条

[1]

一种研磨颗粒清洗装置 [P].

梁振杰 ;

杨永红 ;

王志强 ;

王战伟 .

中国专利 :CN205816303U ,2016-12-21

[2]

一种研磨颗粒清洗装置 [P].

程相山 ;

杨永红 ;

梁振杰 ;

马江涛 ;

付豪 ;

朱振坡 ;

王建彬 ;

王留坡 .

中国专利 :CN211437229U ,2020-09-08

[3]

一种研磨颗粒清洗装置 [P].

白林森 ;

梁莲芝 .

中国专利 :CN108714591A ,2018-10-30

[4]

研磨颗粒分离装置 [P].

杨永红 ;

梁振杰 ;

王志强 ;

王战伟 .

中国专利 :CN205816208U ,2016-12-21

[5]

研磨头清洗装置 [P].

黄汇丰 ;

蒋德念 ;

赵振伟 .

中国专利 :CN209425253U ,2019-09-24

[6]

研磨液清洗装置 [P].

刘宇龙 ;

李春 ;

李宁 ;

董兵超 .

中国专利 :CN201046545Y ,2008-04-16

[7]

芯片研磨清洗装置 [P].

吴梅花 ;

陈超 ;

陈隆基 ;

华佑南 ;

李晓旻 .

中国专利 :CN223236003U ,2025-08-19

[8]

磁力研磨清洗装置 [P].

吴文胜 ;

王小文 .

中国专利 :CN212351596U ,2021-01-15

[9]

一种用于颗粒样品的自动研磨清洗装置 [P].

黄桂贤 ;

曹心想 ;

戴永 ;

李担 .

中国专利 :CN217017590U ,2022-07-22

[10]

颗粒研磨装置 [P].

何裕金 ;

张鸿文 .

中国专利 :CN208679273U ,2019-04-02

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