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光掩模基板的制造方法、光掩模基板、光掩模的制造方法和光掩模
被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN201910915865.3
申请日：
2019-09-26
公开(公告)号：
CN110967919A
公开(公告)日：
2020-04-07
发明(设计)人：
宫崎由宽
申请人：
申请人地址：
日本东京都
IPC主分类号：
G03F126
IPC分类号：
G03F146
代理机构：
北京三友知识产权代理有限公司 11127
代理人：
孟伟青;庞东成
法律状态：
发明专利申请公布后的视为撤回
国省代码：
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法律状态
| 法律状态公告日 | 法律状态 | 法律状态信息 |
| 2022-03-08 | 发明专利申请公布后的视为撤回 | 发明专利申请公布后的视为撤回 IPC(主分类):G03F 1/26 申请公布日:20200407 |
| 2020-04-07 | 公开 | 公开 |