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光掩模和光掩模的制造方法
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN201910348874.9
申请日
:
2013-10-12
公开(公告)号
:
CN110147029B
公开(公告)日
:
2019-08-20
发明(设计)人
:
山口昇
申请人
:
申请人地址
:
日本东京都
IPC主分类号
:
G03F176
IPC分类号
:
G03F154
H01L21027
代理机构
:
北京三友知识产权代理有限公司 11127
代理人
:
李辉;黄纶伟
法律状态
:
授权
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2022-06-07
授权
授权
2019-08-20
公开
公开
2019-09-13
实质审查的生效
实质审查的生效 IPC(主分类):G03F 1/76 申请日:20131012
共 50 条
[1]
光掩模基板的制造方法、光掩模基板、光掩模的制造方法和光掩模
[P].
宫崎由宽
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
宫崎由宽
.
中国专利
:CN110967919A
,2020-04-07
[2]
光掩模和光掩模的制造方法
[P].
吉田光一郎
论文数:
0
引用数:
0
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0
吉田光一郎
;
井村和久
论文数:
0
引用数:
0
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0
井村和久
.
中国专利
:CN101373323A
,2009-02-25
[3]
光掩模坯料、光掩模及光掩模的制造方法
[P].
野泽顺
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
野泽顺
.
中国专利
:CN101556432A
,2009-10-14
[4]
光掩模和光掩模的制造方法
[P].
田中千惠
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
株式会社SK电子
株式会社SK电子
田中千惠
;
坂东宏树
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
株式会社SK电子
株式会社SK电子
坂东宏树
;
川原未佑
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
株式会社SK电子
株式会社SK电子
川原未佑
;
山田慎吾
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
株式会社SK电子
株式会社SK电子
山田慎吾
;
森山久美子
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
株式会社SK电子
株式会社SK电子
森山久美子
.
日本专利
:CN118672050A
,2024-09-20
[5]
光掩模的修正方法、光掩模的制造方法、光掩模和显示装置的制造方法
[P].
三好将之
论文数:
0
引用数:
0
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0
三好将之
;
一之濑敬
论文数:
0
引用数:
0
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0
一之濑敬
.
中国专利
:CN109388018B
,2019-02-26
[6]
光掩模和光掩模坯以及光掩模的制造方法
[P].
山田慎吾
论文数:
0
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0
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0
山田慎吾
;
森山久美子
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
森山久美子
;
美作昌宏
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
美作昌宏
.
中国专利
:CN108693697B
,2018-10-23
[7]
光掩模、光掩模组、光掩模及显示装置的制造方法
[P].
山口昇
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
山口昇
.
中国专利
:CN105911812A
,2016-08-31
[8]
光掩模的制造方法和光掩模坯
[P].
笹本纮平
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
笹本纮平
.
中国专利
:CN113867098A
,2021-12-31
[9]
光掩模坯、光掩模以及光掩模的制造方法
[P].
松井一晃
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
凸版光掩模有限公司
凸版光掩模有限公司
松井一晃
;
小岛洋介
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
凸版光掩模有限公司
凸版光掩模有限公司
小岛洋介
.
日本专利
:CN118401890A
,2024-07-26
[10]
光掩模坯料、光掩模及光掩模的制造方法
[P].
坂本好史
论文数:
0
引用数:
0
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0
坂本好史
;
小岛洋介
论文数:
0
引用数:
0
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小岛洋介
;
长友达也
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
长友达也
.
中国专利
:CN110462510A
,2019-11-15
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